名古屋国際特許業務法人-新着情報 名古屋国際特許業務法人の新着情報フィードです。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 23 Jun 2021 17:38:41 +0900 FeedCreator 1.7.2-ppt (info@mypapit.net) ja ストリーミング研修の提供を開始しました http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=150042170760d2cfb2eb3d2 <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">知的財産権を扱うご担当者様(事務ご担当者様を含む)を対象にした、ストリーミングによる知的財産権基礎研修サービスの提供を開始しました。コロナ禍の中、なかなかOJTに時間を割いて新人に基本的な知識を教えることができない、あるいは、過去に出願はしているけれども、基本的なことからきちんと勉強してみたい、というお客様の声にお応えいたします。</span></div><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">実務的な内容に関する情報も含まれていますが、<span style="color:#cc0000;font-weight:bold;">分かりやすい事例を挙げた説明</span>を行いますので、文系・理系を問わずご理解いただくことができます。また、単に知的財産に関する知識をお届けするのみならず、知財経営において注意すべき事項等も織り交ぜ、<span style="color:#cc0000;font-weight:bold;">実務にお役立ていただける内容で構成</span>しています。</span></div><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">オンデマンド型の講義ですので、通信環境さえあれば、どこでも(例:在宅勤務時や通勤時等)ご利用いただくことができます。理解度把握のための小テストを受講される場合、自由質問欄がありますので、日常業務における不明点等もご質問いただくことができます。</span></div><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">詳しくは<a href="https://www.patent.gr.jp/service/kenshu/streaming/index.html" target="_blank"><span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:130%;text-decoration:underline;">ストリーミング研修</span></a>の紹介ページをご覧ください。</span></div><br /> http://www.patent.gr.jp/ Wed, 23 Jun 2021 00:00:00 +0900 改正法情報 -権利の回復要件の緩和- http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=100656930560becb991f86a <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">1.権利回復制度の回復要件の緩和</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">下記表1に示した手続きについて、期限徒過により権利喪失が生じた場合、その回復を認める権利回復制度が設けられています。</span></div><br /> <span style="font-size:16px;line-height:130%;font-family:'メイリオ',sans-serif;">表1</span><table cellspacing="1" cellpadding="7" bgcolor="#666666" width="600" style="border:1px solid #a9a9a9"><tr height="18" style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>特許法による手続き</span></td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>実用新案法による手続き</span></td></tr><tr height="180" style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 外国語書面出願の翻訳文<br></div><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 特許出願等に基づく優先権主張<br></div>- パリ条約の例による優先権主張<br>- 出願審査の請求<br><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 特許料の追納による特許権の回復<br></div><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 外国語でされた国際特許出願の翻訳文<br></div><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 在外者の特許管理人の特例</div></span></td><td bgcolor="#ffffff" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 実用新案登録出願等に基づく優先権主張<br></div>- パリ条約の例による優先権主張<br><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 登録料の追納による実用新案権の回復<br></div><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 外国語でされた国際実用新案出願の翻訳文<br></div><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 在外者の特許管理人の特例</div></span></td></tr><tr height="18" style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>意匠法による手続き</span></td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>商標法による手続き</span></td></tr><tr height="100" style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>- パリ条約の例による優先権主張<br><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 登録料の追納による意匠権の回復</div></span></td><td bgcolor="#ffffff" width="300" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>- 商標権の回復<br><div style="margin-left: 0.6em;text-indent: -0.6em;">- 後期分割登録料等の追納による商標権の回復<br></div><div style="margin-left: 0.8em;text-indent: -0.8em;">- 防護標章登録に基づく権利の存続期間の更新登録<br></div>- 書換登録の申請</span></td></tr></table><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">今般の<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r030521.html" target="_blank">特許法等の一部を改正する法律</a>により、回復の要件が緩和されることとなりました。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">2.経緯</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">改正法施行前の現行法(以下、単に「現行法」ともいいます。)下での権利回復制度では認容率が諸外国と比較して極めて低く(約10~20%)、その判断基準が厳しすぎるとの指摘がありました。また、権利喪失の回復のためには証拠書類の提出が必須であり、出願人等の負担が大きいことも課題とされていました。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">この点に鑑み、今般、権利回復制度の見直しについて議論されていたところ、緩和に向けた改正案が2021年5月14日に可決・成立し、5月21日に公布されました(施行期日:公布日から1年以内の政令で定める日)。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">詳しくは以下をご参照ください。</span></div><br /> <div align="center"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;"><a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r030521.html" target="_blank" style="text-decoration: underline">特許法等の一部を改正する法律</a></span></div><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">今後、運用のためのガイドラインの整備など、施行に向けた具体的な動きが加速することが見込まれます。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">3.現行法(改正前)の権利回復制度</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <span style="font-weight:bold;font-family:'メイリオ',sans-serif;font-size:15px;">(1) 特許法条約との関係</span><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">権利回復制度は特許法条約に基づく制度です。特許法条約では、権利回復の判断基準として「相当な注意基準」と「故意基準」とのうちのいずれかを採用することが定められており、日本では、「相当な注意基準」が採用されています。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">「故意基準」では、その遅滞が「故意」によるものでない場合に権利回復が認められます。一方、現行法で採用されている「相当な注意基準」は、「相当な注意」を払っていたにもかかわらず当該期間を遵守できなかった場合に権利回復が認められるというものであり、「故意基準」よりも権利回復の可否が厳格に判断されることとなっています。</span></div><br /> <span style="font-weight:bold;font-family:'メイリオ',sans-serif;font-size:15px;">(2) 正当な理由</span><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">現行法での権利回復制度では、期限徒過に「正当な理由」があり、さらに、「正当な理由」がなくなってから2か月以内、且つ、期限経過後1年以内(商標に関しては6月以内)である場合に、権利回復が認められます。しかし、「相当な注意基準」が採用されているため、「正当な理由」の有無は、期限徒過の原因となった事象と、出願人等が期間内に手続きをするために講じた措置とを考慮して厳格に判断されます。この場合、人的ミスや、管理システム・仕組みの瑕疵などを含む手続管理上のミスなどにより生じた期限徒過については、権利回復が認められる余地はほぼありませんでした。その結果、以下の表2に示すように、欧州、フランス、米国等に比べ、権利回復の認容率が大幅に低くなっていました。また、権利回復を申請する際の立証負担が過大となっていました。</span></div><br /> <span style="font-size:16px;line-height:130%;font-family:'メイリオ',sans-serif;">表2</span><table cellspacing="1" cellpadding="7" bgcolor="#666666" width="600" style="border:1px solid #a9a9a9"><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="80" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>国・地域</td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="70" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>回復期間</td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="80" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>判断基準</td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="160" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>立証負担</td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="85" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>認容率</td><td bgcolor="#edffdb" align="center" width="70" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>手数料</td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>日本</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>1年</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>相当な注意基準</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>証拠書類の提出が<span style="text-decoration:underline;">必須</span></span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>10-20%</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>無料</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>欧州(EPO)</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>1年</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>相当な注意基準</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'><span style="text-decoration:underline;">必要に応じて</span>証拠書類の提出を要求</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>60-70%</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>665ユーロ</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>フランス</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>1年</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>相当な注意基準</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'><span style="text-decoration:underline;">必要に応じて</span>証拠書類の提出を要求</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>約80%</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>156ユーロ</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>米国</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>無期限</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>故意基準</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>原則として不要<br>(陳述書のみ)</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>90-95%</span></td><td bgcolor="#ffffff" align="center" style="border:1px solid #a9a9a9"><span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;font-family:"メイリオ",sans-serif;'>2100ドル<br>(軽減あり)</span></td></tr></table><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">4.判断基準の転換</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">今回の改正法により、権利回復の判断基準が「相当な注意基準」から「故意基準」に転換し、緩和されることとなりました。今回の緩和により、人的ミスや手続管理上のミスによる期限徒過等が新たな救済の対象となり得ます。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">5.まとめ</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">現行法での権利回復制度では「相当な注意基準」が採用され、しかも、「相当な注意」がされていたかの判断が厳格になされているため他国に比べ権利の回復が認められにくく、この点は日本での権利取得を困難にする原因の1つであると指摘されていました。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">しかし、今般の改正法により権利回復制度の判断基準が「故意基準」へと転換し、救済の幅が大きく広がることとなりました。改正法の具体的な施行時期や今後整備されるガイドライン等の具体的な内容について引き続き注目していきます。</span></div><br /> <br /> <div align="right"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">弁理士:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kumazaki/index.html" target="_blank">熊崎 誠</a></span></div> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 22 Jun 2021 00:00:00 +0900 特許権等の侵害訴訟における第三者意見募集制度の導入 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=81602476360b87fa2af962 <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:900;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">はじめに</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">特許法、実用新案法、意匠法、及び商標法の改正案が2021年5月14日に可決・成立し、5月21日に公布されました(施行期日:公布日から1年以内の政令で定める日)。</span></div><br /> <div align="center"><a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r030521.html" target="_blank"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">特許法等の一部を改正する法律(令和3年5月21日法律第42号)</span></a></div><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">今回は、この改正法における主な改正項目のうち、特許権等の侵害訴訟における第三者意見募集制度について、さらに詳細を紹介します。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:900;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">制度導入の背景</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">米国では、裁判所が、当事者及び参加人以外の第三者から意見や資料の提出を受ける、アミカスブリーフ制度が設けられています。英国でも、同様の制度が設けられています。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">米国の最高裁判所規則(Rule 37)によれば、所定のタイミングで、両当事者の書面による同意を得ることで、アミカスキュリエ(amicus curiae)(※1)がアミカスブリーフ(amicus brief)(※2)を提出できることが規定されています。また、当事者の同意が無い場合であっても、裁判所からの要求・許可があった場合、アミカスブリーフの提出が許容される場合があります。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">また、米国の連邦控訴手続規則(Rule 29)、及び連邦巡回控訴裁判所規則(Rule 29)においても、原則当事者の書面による同意又は裁判所の許可を得ればアミカスキュリエはアミカスブリーフを提出することが可能である旨が規定されています。</span></div><br /> <table style="border:none"><tr style="border:none"><td bgcolor="#eaf4ff" style="border:none"><div style="margin-left:11.9em;text-indent: -11.9em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">(※1) アミカスキュリエ:ラテン語で「法廷の友人」の意。裁判所に情報又は意見を提出する第三者のことをいう。</span></div><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">(※2) アミカスブリーフ:第三者から裁判所に提出される意見や資料のこと。</span></td></tr></table><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">これに対して、日本で従前より法律上の制度として設けられていたものは、裁判所が技術の専門家等の限られた対象に意見を求めるものであって、広く一般から意見を求めるものではありませんでした。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">しかしながら、アップル対サムスン訴訟(知財高判平成26年5月16日(平成25年(ネ)第10043号))においては、当時の現行法の枠組み内で、第三者から意見を募集する試みが行われました。その法廷判断の影響力の大きさを鑑みたものであり、日本の民事訴訟における初めての試みでした。その結果、国内外から多数の意見が寄せられ、裁判所が広い視野に立って適正な判断を行うために、第三者から意見を募集することが有益であることが示されることとなりました。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">近年のAI・IoT技術の進展に伴って、特許権等に関する訴訟は、これまで以上に高度化・複雑化することが想定されます。このような状況においては、アップル対サムスン訴訟のように、裁判所が幅広く意見を募集することが好ましい事案も生じ得ると考えられます。その際、現行法の枠組み内での意見募集では、例えば当事者双方の同意を得なければならないなど、制限が生じてしまう懸念があります。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">これらを鑑みて、今般の改正法において、裁判所が必要と認めるときに第三者から意見を募集することができる第三者意見募集制度(日本版アミカスブリーフ制度)が盛り込まれました。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:900;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">制度の概要</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">下表のとおり、第三者意見募集制度は、<span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;">当事者による証拠収集手続きの特例</span>という位置付けとされています。このため、当事者の申立てにより制度の利用が図られることとなっています。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第三者が提出可能な意見の内容については、特に制限は設けられない見込みです。ただし、日本における<span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;">民事訴訟の原則である弁論主義</span>(※3)に鑑みて、第三者から提出された意見や資料については、その全てが判断の基礎とされるのではなく、<span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;">当事者が書証として裁判所に提出した書類(以下、「意見書」)のみ</span>が判断の基礎とされる見込みです。この、弁論主義に鑑み、“当事者が書証として提出した意見書”のみが判断の基礎とされる点が、米国の制度等と比較して大きく異なる点です。</span></div><div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第三者意見募集制度は、まずは特許権・実用新案権・これらの専用実施権に係る侵害訴訟のみに導入されることとなりました。なお、必要に応じて適用範囲を拡大することも想定されています。</span></div><br /> <table style="border:none"><tr style="border:none"><td bgcolor="#eaf4ff" style="border:none"><div style="margin-left:11.9em;text-indent: -11.9em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">(※3) 弁論主義:判決の基礎となる事実に関する資料の収集・提出は当事者の権能・責任であるとする原則。</span></td></tr></table><br /> <div align="center"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第三者意見募集制度</span></div><table cellspacing="1" cellpadding="7" bgcolor="#000000" width="550" style="border:1px solid #a9a9a9"><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">制度の位置付け</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">当事者による証拠収集手続き</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">対象の事件</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">特許権・実用新案権・これらの専用実施権に係る侵害訴訟</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">対象の審級</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第一審 : 東京地方裁判所・大阪地方裁判所<br>控訴審 : 知的財産高等裁判所</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">意見書を提出できる者</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">限定しない<br>(広く一般に対して意見を求める)</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">要件</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">&#9312; 一方当事者の申立て<br>&#9313; 裁判所が必要と認める<br>&#9314; 他方当事者の意見聴取</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">求める意見の内容</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">事件に関する特許法・実用新案法の運用その他の必要な事項であって、<br>裁判所が必要と認めた事項</span></td></tr><tr style="border:1px solid #a9a9a9"><td bgcolor="#ffe5e5" align="left" width="150" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">意見書の取扱い</span></td><td bgcolor="#FFFFFF" align="left" width="400" style="border:1px solid #a9a9a9"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">当事者は、必要と認める意見書を謄写し、書証として裁判所に提出する。<br>裁判所は、書証として提出された意見書を判断の基礎とできる。</span></td></tr></table><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:900;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">実務上の運用見込み</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第三者意見募集制度の施行後の実務としては、当該第三者から意見の内容について弁護士・弁理士が相談を受けたうえで意見書を作成する運用が予想されます。この点に関し、弁理士が意見の内容についての相談を受けられるようにするため、特許法等の改正に併せて弁理士法も改正されました。</span></div><br /> <br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: 0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:900;color:#191970;font-family:'游明朝',sans-serif;">さいごに</span></div><hr size=1.5" color="#191970"><br /> <div style="text-indent: 1em;"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">第三者意見募集制度により、裁判所による判断の精度が高められ得ることが期待されます。施行後、実際にどのように活用されていくか、引き続き動向を注視していく必要があります。</span></div><br /> <br /> <div align="right"><span style="font-family:'メイリオ',sans-serif;">弁理士:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwatsuki/index.html" target="_blank">岩附紘子</a></span></div> http://www.patent.gr.jp/ Fri, 04 Jun 2021 00:00:00 +0900 愛知県内中小企業の特許・実用新案・意匠・商標の外国出願助成金(令 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=17247427060ac7f32b6eb2 <div style="text-indent: 1em;">(公財)あいち産業振興機構では、愛知県内中小企業者の国際的な事業展開に向けた知財支援のため、既に国内で出願済みの特許、実用新案、意匠、商標出願を活用した外国特許庁への出願に要する経費の一部を補助しています。</div><div style="text-indent: 1em;">国内出願済みの特許等を活用して、海外市場へ挑戦される中小企業の皆様は、是非ご覧ください。</div><br /> <div style="text-indent: 0em;"><span style="color:#ff3300;font-weight:bold;">● 受付締切 : 令和3年6月3日(木)午後5時【必着】</span></div><br /> <div style="text-indent: 0em;">【補助対象経費】 外国特許庁への出願料、外国出願に要する代理人費用、翻訳費用など</div><div style="text-indent: 0em;">【補助率】 補助対象経費の2分の1以内</div><div style="text-indent: 0em;">【補助上限額】</div><div style="text-indent: 2em;">1企業あたり : 300万円(複数案件の場合)</div><div style="text-indent: 2em;">1案件あたり : 特許出願 : 150万円</div><div style="text-indent: 8.5em;">実用新案・意匠・商標出願 : 60万円</div><div style="text-indent: 8.5em;">冒認出願対策目的の商標出願 : 30万円</div><div style="text-indent: 0em;">【受付期間】 令和3年5月13日(木)~6月3日(木)17:00必着</div><br /> ▼詳細<br /> <a href="https://www.chubu.meti.go.jp/b36tokkyo/sesaku/gaikokuhojokin/03fy.html" target="_blank">https://www.chubu.meti.go.jp/b36tokkyo/sesaku/gaikokuhojokin/03fy.html</a><br /> (中部経済産業局による紹介ページ。あいち産業振興機構HPへのリンクがあります。)<br /> <br /> 【申込問合せ先】<br /> (公財)あいち産業振興機構 新事業支援部 地域資源活用・知的財産グループ<br />  TEL:052-715-3074 FAX:052-563-1438 <br />  E-Mail:info-chiiki@aibsc.jp<br /> <br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 25 May 2021 00:00:00 +0900 岐阜県内中小企業の特許・実用新案・意匠・商標の外国出願助成金(令 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=211700124560ac85631d245 <div style="text-indent: 1em;">(公財)岐阜県産業経済振興センターでは、岐阜県内中小企業者等の海外展開に向けた支援の一環として、基礎となる国内出願(特許、実用新案、意匠、商標)と同内容の外国出願にかかる費用の半額を助成しています。</div><div style="text-indent: 1em;">国内出願済みの特許等を活用して、海外市場へ挑戦される中小企業の皆様は、是非ご覧ください。</div><br /> <div style="text-indent: 0em;"><span style="color:#ff3300;font-weight:bold;">● 受付締切 : 令和3年6月18日(金)午後5時【必着】</span></div><br /> <div style="margin-left:5.5em;text-indent: -5.5em;">【対象事業】 既に日本国特許庁に出願済みの特許、実用新案、意匠、商標を活用して、海外展開を図るために外国へ出願する事業</div><div style="text-indent: 0em;">【対象者】 岐阜県内に本社を置く中小企業者等又はそれらの中小企業者等で構成されるグル-プ</div><div style="text-indent: 0em;">【補助対象経費】 外国特許庁への出願手数料、弁理士費用、翻訳料など</div><div style="text-indent: 0em;">【補助率】 補助対象経費の2分の1以内</div><div style="text-indent: 0em;">【補助上限額】</div><div style="text-indent: 2em;">1企業に対する1会計年度内の上限額 : 300万円</div><div style="text-indent: 10.45em;">案件ごとの上限額 : 特許 : 150万円</div><div style="text-indent: 19.4em;">実用新案・意匠・商標 : 60万円</div><div style="text-indent: 19.4em;">冒認対策商標 : 30万円</div><div style="text-indent: 0em;">【受付期間】 令和3年5月17日(月)~6月18日(金)17:00必着</div><br /> ▼詳細<br /> <a href="https://www.chubu.meti.go.jp/b36tokkyo/sesaku/gaikokuhojokin/03fy.html" target="_blank">https://www.chubu.meti.go.jp/b36tokkyo/sesaku/gaikokuhojokin/03fy.html</a><br /> (中部経済産業局による紹介ページ。岐阜県産業経済振興センターHPへのリンクがあります。)<br /> <br /> 【申込問合せ先】<br /> (公財)岐阜県産業経済振興センター 経営支援部 取引課 取引担当<br />  TEL:058-277-1092 FAX:058-273-5961<br />  E-Mail:torihiki@gpc-gifu.or.jp<br /> <br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 25 May 2021 00:00:00 +0900 特許法等の改正案が閣議決定 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=887190175607e863dd335f <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;text-decoration:underline;color:#191970;">○はじめに</span></div><div style="text-indent: 1em;">2021年3月2日に、特許法、実用新案法、意匠法、及び商標法の改正案が閣議決定されました。改正案は、現在開会中である第204回通常国会での審議を経て、早ければ5月頃に成立する見込みです。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;text-decoration:underline;color:#191970;">○主な改正項目</span></div><div style="text-indent: 1em;">今回の改正案には、主な改正項目として以下の5つの項目が含まれています。</div><div style="text-indent: 2em;"><span style="font-weight:bold;color:#006400;">( 1 ) 権利の回復要件の緩和</span></div><div style="text-indent: 2em;"><span style="font-weight:bold;color:#006400;">( 2 ) 海外からの模倣品への規制強化</span></div><div style="text-indent: 2em;"><span style="font-weight:bold;color:#006400;">( 3 ) 侵害訴訟における第三者意見募集制度の導入</span></div><div style="text-indent: 2em;"><span style="font-weight:bold;color:#006400;">( 4 ) 口頭審理のオンライン化</span></div><div style="text-indent: 2em;"><span style="font-weight:bold;color:#006400;">( 5 ) 権利の訂正等において通常実施権者による承諾が不要</span></div><div style="text-indent: 1em;">以下、それぞれの改正項目について概要を簡単に説明します。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:130%;color:#006400;">( 1 ) 権利の回復要件の緩和</span></div><div style="text-indent: 1em;">出願人又は権利者が期限までに手続を行わなかったために失われた権利の回復要件として、特許法条約(PLT)の締約国は、「相当な注意基準」又は「故意基準」のいずれかを選択できます。日本においては、現行、「相当な注意基準」が採用されかつ厳格な判断がされてきましたが、今回の改正案では回復要件が「故意基準」に変更されています。<br />  これまで、日本においては、他国と比較して権利の回復が認められにくいとされてきましたが、今回の改正案により権利の回復の容認率が向上することが期待されます。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:130%;color:#006400;">( 2 ) 海外からの模倣品の規制強化</span></div><div style="text-indent: 1em;">従来、海外から日本国内へ持ち込まれる模倣品については、日本国内の事業者が輸入し販売する行為が権利の侵害となる一方、海外の事業者が日本国内の個人に対して直接販売して送付する行為は、侵害に問えないケースがありました。</div><div style="text-indent: 1em;">今回の意匠法及び商標法の改正案では、海外の事業者により日本国内へ模倣品が持ち込まれる行為も侵害となることが明文化されています。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:130%;color:#006400;">( 3 ) 侵害訴訟における第三者意見募集制度の導入</span></div><div style="text-indent: 1em;">今回の改正案で初めて第三者意見募集制度が導入されています。これにより、裁判所は、必要と認める場合には広く一般に対して意見を求めることができるようになります。AI・IoT技術の時代において複雑化・高度化する事案について、裁判所が適切な判断をする助けとなることが期待されます。この制度は、まずは、特許権及び実用新案権の侵害に関する訴訟についてのみ対象とされています。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:130%;color:#006400;">( 4 ) 口頭審理のオンライン化</span></div><div style="text-indent: 1em;">無効審判等の審判で開かれる口頭審理について、現行では、当事者が審判廷に出頭する必要があります。今回の改正案では、新型コロナウイルスの感染拡大等に対応すべく、審判長の判断により、口頭審理についてウェブ会議システムでの開催が可能となることが盛り込まれています。ウェブ会議システムの具体的な運用については、今後制定されるガイドラインにより明らかになる見込みです。</div><br /> <div style="margin-left:0.0em;text-indent: -0.0em;"><span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:130%;color:#006400;">( 5 ) 権利の訂正等において通常実施権者による承諾が不要</span></div><div style="text-indent: 1em;">特許権、及び実用新案権の訂正には、現行では通常実施権者等の承諾が必要とされています。しかし、例えばパテントプールを通じて多くの相手にライセンスされている権利では、すべての通常実施権者等に承諾を求めることは現実的に困難であり、権利者が権利の内容を訂正できずに訴訟等で敗訴することが懸念されるとの意見がありました。このような懸念を解消すべく、今回の改正案では、権利の訂正において通常実施権者等の承諾が不要とされています。</div><div style="text-indent: 1em;">また、特許権、実用新案権、及び意匠権の放棄についても、現行では同様の規定がありますが、今回の改正案では通常実施権者等の承諾が不要とされています。</div><br /> 弁理士:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/haniu/index.html" target="_blank">羽二生真理子</a> http://www.patent.gr.jp/ Fri, 23 Apr 2021 00:00:00 +0900 審査官とのオンライン面接を活用しましょう http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=64732362060626cedea5b0  特許出願の審査が円滑かつ的確に進むようにするための有効な手続きとして、審査官との間で行われる「面接」が活用されています。1995年には特許庁において「面接ガイドライン」が策定され、以後、改訂が随時行われてきました。<br />  近年では、インターネット回線を利用したオンライン面接システムも導入され、利便性もより向上しています。<br /> <br /> <特許庁>オンライン面接システムを用いた面接について<br /> <a href="https://www.jpo.go.jp/system/patent/shinsa/mensetu/telesys_mensetu.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/patent/shinsa/mensetu/telesys_mensetu.html</a><br /> <br />  オンライン面接システムでは、最大10拠点からのアクセスが許容されます。参加者は、それぞれ都合の良い場所からアクセスして面接に参加することができます。<br />  特許庁に出向いて面接を行う場合、移動の時間や費用がネックとなっていましたが、オンライン面接システムを活用することで、そういった時間や費用を抑えられます。<br /> <br />  面接では、代理人を含む出願人側は、例えば次のような事項について審査官に提示及び説明することができます。<br />  ・出願された発明の技術的特徴<br />  ・出願された発明と先行技術との対比(相違点)<br />  ・明細書等の補正案<br /> <br />  面接での審査官との意見交換、議論を介して、特許されるかどうかの予測可能性が高まり、また、特許され得るポイントを見出すことについても期待できます。<br />  実際、面接を実施した出願のほうが面接を実施していない出願よりも特許査定率が高かったというデータも公表されています。<br />  このように、面接の実施には大きなメリットがあります。<br /> <br />  当法人では、随時、審査官との面接のご依頼を承っております。上述のようなオンライン面接を積極的に活用することで出願人様のコスト負担を抑えることも可能ですので、ぜひお気軽にお問合せください。<br /> <br /> 弁理士:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwata/index.html" target="_blank">岩田誠</a><br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 13 Apr 2021 00:00:00 +0900 進歩性における「有利な効果」の判断基準が明確化! http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8969015660626e2800b8b  今般、医薬に係る化合物の用途発明に関する<a href="https://www.courts.go.jp/app/files/hanrei_jp/888/088888_hanrei.pdf" target="_blank">最高裁判決(最三小判令1.8.27.平成30(行ヒ)69)</a>により、進歩性における有利な効果の判断基準が明確化されました。<br />  最高裁判決によると、例えば、以下の図1に示すように、化合物Aの発明において、進歩性判断における「予測できない顕著な効果」は、化合物Aの構成が当該効果を奏することについて、「予測できない」「顕著な」効果であるかを問題とすべきであり、進歩性判断基準時当時に同等の効果を奏する他の化合物Bが存在したことは直接関係しないことが明確となりました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R030330/image01.jpg" alt="予測できない顕著な効果の判断手法" width="500" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /><br /> <span style="font-size:12px;line-height:130%;">図1 予測できない顕著な効果の判断手法<br>(最高裁判決による)</span></center><br /> <br />  医薬の分野において、出願に係る化合物の発明の進歩性を主張するうえで、当該化合物が「予測できない顕著な効果」を有することを主張することは有効な対応であると言えます。しかしながら、日本におけるこれまでの実務において、同種・同程度の効果を有し、構造を異にする他の化合物の存在を理由に、出願に係る化合物の発明の進歩性が認められないケースが散見されていました。<br />  今回の最高栽判決により進歩性における有利な効果の判断基準が明確となったことは、今後の医薬の分野における出願戦略においても重要な意義を有するものと考えられます。<br /> <br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">○進歩性の判断について</span><br />  ここで、日本の実務における、有利な効果の前提となる進歩性の判断手法について簡単に説明します。<br />  審査基準においては、出願に係る発明の進歩性は、審査官が、主引用発明から出発して、当業者が出願に係る発明に容易に到達する論理付けができるか否かを検討することにより判断されます。<br />  論理付けは、以下の図2に示すように、進歩性が否定される方向に働く要素、及び進歩性が肯定される方向に働く要素に係る諸事情を総合的に評価した上で判断されます。<br />  そして、引用発明と比較した有利な効果が、技術水準から予測される範囲を超えた顕著なものであるということは、進歩性を肯定する方向に働く事情として評価されます。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R030330/image02.jpg" alt="論理付けのための主な要素" width="500" height="265" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /><br /> <span style="font-size:12px;line-height:130%;">図2 論理付けのための主な要素<br>(審査基準より抜粋)</span></center><br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">○予測できない顕著な効果の判断方法</span><br />  予測できない顕著な効果の判断方法について、従来、次の3つの考え方がありました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#006400;">・主引用発明比較説</span><br />  対象発明が奏する効果を、主引用発明の奏する効果のみと比較して、顕著で、かつ、予測できないことをいうと解する見解。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#006400;">・対象発明比較説</span><br />  対象発明が奏する効果を、当業者が(進歩性判断基準時当時に)対象発明の構成が奏するであろうと予測できる効果と比較して、顕著で、かつ、予測できないことをいうと解する見解。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#006400;">・技術水準比較説</span><br />  対象発明が奏する効果を、進歩性判断基準時の技術水準において達成されていた(対象発明とは異なる構成を有する発明が奏するものも含めた)同種の効果のみと比較して、顕著で、かつ、予測できないことをいうと解する見解。<br /> <br />  今回の最高裁判決は、対象発明比較説を前提としたものと解されます。したがって、今回の最高裁判決により、例えば、出願に係る化合物の発明において、有利な効果の顕著性は、出願に係る化合物の構成が奏するであろうと予測できる効果と比較して判断されるべきであり、進歩性判断基準時当時にたとえ構造の異なる「他の化合物」で同種同程度の効果が知られていたとしても、それに基づいて有利な効果の顕著性を否定されないことが明確化されたと言えます。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">○実務への指針</span><br />  拒絶理由通知書において、審査官が他の化合物の存在及び効果を引用して、出願に係る化合物の有利な効果を否定していた場合、出願人は、審査官の認定が誤りであることを反論することが可能であると言えます。<br />  出願に係る新規な化合物において、その化合物の構成から想定される効果に基づいて有利な効果があれば、特許取得の可能性が生じ得ます。これは、例えば、同じ効果を異なる構造で達成する新薬を開発する場合において、当該新薬の特許出願を進めるうえでアドバンテージとなり得ます。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">○さいごに</span><br />  この最高裁判決は、有利な効果の判断基準を判示した初めての判決であることから、参考情報として、審査基準の補足的資料としての位置付けをなす審査ハンドブックに掲載されるに至りました。<br />  我々としましては、今後も引き続き、本判決と類似し得るケースについて審査の動向を注視していきます。<br /> <br />  弁理士:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/tsuji/index.html" target="_blank">辻雄介</a>、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/takenaka/index.html" target="_blank">竹中謙史</a><br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 30 Mar 2021 00:00:00 +0900 中国 特許出願の件数の追及から品質の向上への転換を推進 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=932135357601cf9f7dfc68  中国では、特許出願件数は年々増加しており、2018年には特許出願件数は146万件超に達していましたが、このたび、中国国家知的財産権局(CNIPA)は、異常な特許出願行為を厳しく取り締まる旨の通知を出しました。<br /> <br />  <a href="https://www.cnipa.gov.cn/art/2021/1/27/art_545_156433.html" target="_blank">https://www.cnipa.gov.cn/art/2021/1/27/art_545_156433.html</a><br />  ※CNIPAの中国語サイト<br /> <br />  背景には、出願の数ばかりが盲目的に追及され、質の高い開発や出願に十分に注意が払われず、補助金目当ての異常な特許出願行為が横行していた実態があります。<br />  CNIPAの通知では、そのような異常な特許出願行為により、行政秩序が著しく乱され、公共の利益を損ない、企業のイノベーションを妨害し、公共資源を浪費し、特許制度が弱体化し続けていることが指摘されています。<br />  このような問題をうけ、CNIPAは、異常な特許出願行為を厳しく取り締まり、特許出願件数の数量の追及から品質の向上への転換を強力に推進する、と通知を出しました。<br /> <br />  通知では、2021年6月末までに、出願(特許・実用新案・意匠の出願)を行ったことに対して支払われる補助金を完全に廃止する旨が記載されています。<br />  さらに、特許が付与された場合の補助金については当面支払いが継続されるものの、今後順次減額していき、2025年までに完全に廃止する旨が記載されています。<br />  そして、対象となる出願としては、中国国内出願のみならず、外国出願(中国国内の出願人が中国国外に対して行う出願)も含むとされています。<br /> <br />  CNIPAの今回の通知と施策により、中国においては、補助金の受領のみを目的としたような特許出願が無くなっていくことが予想され、その分だけ特許出願の総数が減少すると思われますが、最終的にどのような件数に落ち着いていくかについては、今後の推移に注目したいところです。<br /> <br /> 弁理士 <a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwata/index.html" target="_blank">岩田誠</a><br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 09 Feb 2021 00:00:00 +0900 特許庁への手続きにおける「押印廃止の範囲拡大」のお知らせ http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=189214148860077af7542a8  今般、特許庁への手続きにおける「押印廃止」に関して、従来の新規性喪失の例外適用以外にも適用範囲が広がりました。内訳は次の通りです。<br /> <br />  <span style="font-size:8px;line-height:130%;">●</span> 特許庁への手続き全体 : 797種<br />    <strong>・</strong> 押印存続の手続き : 33種<br />    <strong>・</strong> 選択肢を拡大する手続 : 74種<br />      ※条約で署名等が求められている手続が該当します。<br />    <strong>・</strong> 押印廃止の手続き : 690種<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">(1)押印存続となる手続きに関して</span><br /> <span style="font-weight:bold;">・ 押印存続となる対象書類一覧</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※偽造による被害が大きいため押印存続</span><br />     <<a href="https://www.jpo.go.jp/system/process/shutugan/madoguchi/info/oin-minaoshi.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/process/shutugan/madoguchi/info/oin-minaoshi.html</a>><br /> <br /> <span style="font-weight:bold;">・ 条約で署名等が求められている手続の運用(施行日:令和2年12月28日)</span><br />   [1] これまでの押印に加えて、署名(自筆、イメージファイルによる印刷、ゴム印によるスタンプ等)での申請を<br />       可能とする。<br />   [2] 法人の署名は代表取締役だけでなく代表者から署名をする権限を付与されている者によるものも可能とする。<br /> <br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline;">(2)押印廃止となる手続きに関して</span><br /> <span style="font-weight:bold;">・ 新旧減免制度</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※2021年1月以降の提出分について、旧制度の各書類の押印が不要になります。</span><br />     <<a href="https://www.jpo.go.jp/system/process/tesuryo/genmen/genmensochi.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/process/tesuryo/genmen/genmensochi.html</a>><br />    (様式見本等は追って更新となっています。)<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;">・ 方式審査便覧</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※押印廃止に関する箇所が改訂されております(令和2年12月28日~)。</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※紙書類(例:手続補足書、協議の結果届等)提出時の押印が原則不要になります。</span><br />    ・ 「方式審査便覧」の改定について<br />     <<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/kaitei/index.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/kaitei/index.html</a>><br />   ※なお、例えば名義変更の譲渡証等、押印の必要な書類についての若干の変更もありますので、<br />    方式便覧でご確認下さい。<br />    ・ 方式審査便覧<br />     <<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/index.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/hoshiki-shinsa-binran/index.html</a>><br /> <br /> <span style="font-weight:bold;">・ 意匠登録出願等の手続のガイドライン</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※押印廃止になった箇所が改訂されています。</span><br />     <<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/design/isyou_guideline.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/design/isyou_guideline.html</a>><br /> <br /> <span style="font-weight:bold;">・ 面接ガイドライン</span><br />   <span style="color:#A40D2F;">※上申書・委任状の押印欄が廃止になっています。</span><br />    特許:<<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/mensetu_guide_index.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/mensetu_guide_index.html</a>><br />    意匠:<<a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/design/mensetu_guide_isyou.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/design/mensetu_guide_isyou.html</a>><br />    審判:<<a href="https://www.jpo.go.jp/system/trial_appeal/mensetu_guide_sinpan.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/trial_appeal/mensetu_guide_sinpan.html</a>><br /> <br />  今般の特許庁への手続きにおける「押印廃止」に関して何かご不明点等ございましたら、担当:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/taniguchi/index.html" target="_blank">弁理士 谷口</a>まで、<br /> お気軽にご連絡をいただけますと幸いです。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 26 Jan 2021 00:00:00 +0900 サービスページ 更新のお知らせ http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=13557660555ff4fdbcdf7b4  当法人のサービスページを更新しました。<br />  新しいサービスページは「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/index.html" target="_blank">こちら</a>」です。<br /> <br />  これまでもお客様のところへ出向いて研修をご提供していましたが、今般、さらにストリーミング研修を拡充しましたので、これらの知財教育や研修サービスを総合的にご紹介する<span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#A40D2F;">「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/kenshu/index.html" target="_blank"><span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#A40D2F;">知財教育・研修</span></a>」</span>のページを新設しました。<br />  当法人では、シーンを選ばずに様々な知的財産権に関する教育・研修を提供可能です。<br />  したがいまして、お客様のニーズに合わせて、出張研修やストリーミングによる知的財産権基礎研修をご利用いただけます。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">(1)出張研修</span><br />  出張研修は、お客様のニーズに合わせて、知財部門の教育支援や各種研修をご提供しています。事前に打ち合わせを行った上で行うオーダーメイド研修ですので、お客様の実情によりフィットした研修をご提供いたします。なお、ZoomやTeamsなどのWeb会議ツールを使ったオンライン研修も可能です。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">(2)ストリーミング研修</span><br />  コロナ禍においても、あるいは、アフターコロナにおいても、お客様企業における人財育成をしっかりと支援したいと考え、新たにストリーミング研修も準備いたしました。<br />  なかなかOJTに時間を割いて新人に基本的な知識を教えることができない、あるいは、過去に出願はしているけれども基本的なことからきちんと勉強してみたい、というお客様の声をお聞きしました。<br />  そこで、知的財産権を扱うご担当者様(事務ご担当者様含む)を対象にした知的財産権基礎研修サービスのご提供を開始いたしました。<br />  現在、割引料金で一部コンテンツをお試しいただけるモニター受講者募集中です。<br />  詳しくは<a href="https://www.patent.gr.jp/service/kenshu/streaming/index.html" target="_blank">ストリーミング研修</a>の紹介ページをご覧ください。<br /> <br /> <hr style="height:1px;border:none;color:#a9a9a9;background-color:#a9a9a9;" /><br />  詳しくは、「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/kenshu/index.html" target="_blank">知財教育・研修</a>」のページをご覧ください。<br />  また、各ページの下欄から「<a href="https://www.patent.gr.jp/inquiry/index.html?m=kenshu" target="_blank">お問い合わせ</a>」いただけるようにしています。<br />  ご相談やご要望等がございましたらいつでもご連絡ください。お待ちしております。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 07 Jan 2021 00:00:00 +0900 新年のご挨拶 2021年1月1日 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=4881913855fe936ef3cff8 <img src="http://patent.gr.jp/news/images/shinnen/image01.gif" alt="謹賀新年" /><br /> <br />  新春を迎え皆々様のご多幸をお祈り申し上げます。<br />  昨年は、コロナ禍によって生活様式が大きく変わり、我慢のときを強いられました。今年も引き続きコロナ禍に対峙していく必要があります。<br />  「生き残る種というのは、最も強いものでもなければ、最も知的なものでもない。最も変化に適応できる種が生き残るのだ。」<br />  これは、進化論で有名なチャールズ・ダーウィンの格言ですが、コロナ禍の時代において良く耳にする言葉です。<br />  誰もが変化への適応力を試されようとしております。<br />  適応力を発揮して打ち勝っていきましょう。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">1.現在の当法人の状況</span><br />  昨年4月には、弁理士試験に合格した4名が無事に弁理士登録を行いました。<br /> 【<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/takizawa/index.html" target="_blank">滝沢和雄</a>】…機械・制御系を主に担当。有機化学やプログラミングも経験あり。知的財産アナリスト・一級知的財産管理技能士でもある。<br /> 【<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/haniu/index.html" target="_blank">羽二生真理子</a>】…高分子材料・有機材料・無機材料・バイオマテリアル等の材料全般、自動車関連技術、半導体デバイスを得意とする。<br /> 【<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwatsuki/index.html" target="_blank">岩附紘子</a>】…高分子材料・有機材料・無機材料などの材料全般、各種車載装置・車両制御等の案件を主に担当。<br /> 【<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/n-tsuji/index.html" target="_blank">辻奈都子</a>】…大学時代は統合生命科学を専攻。バイオ・医薬・食品・化学・機械の案件を主に担当。企業時代には薬事関連業務の経験あり。<br />  この結果、27名の日本弁理士、2名の中国弁理士試験合格者を含む総勢85名の規模となりました。当法人HPの<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/index.html" target="_blank">弁理士紹介</a>をご覧下さい。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">2.知財教育・研修のご紹介</span><br />  知的財産権に関する教育・研修を提供します。<br />  お客様のニーズに合わせて、出張研修やストリーミングによる知的財産権基礎研修をご利用いただけます。<br />  出張研修は、お客様のニーズに合わせて、知財部門の教育支援や各種研修をご提供いたします。事前に打ち合わせを行った上で行うオーダーメイド研修ですので、お客様の実情によりフィットした研修をご準備します。「出張研修」については、ZoomやTeamsなどのWeb会議ツールを使って提供することも当然可能です。<br />  さらに今般、コロナ禍においても、あるいは、アフターコロナにおいても、お客様企業における人財育成をしっかりと支援したいと考え、新たにストリーミング研修も準備いたしました。<br />  コロナ禍の中、なかなかOJTに時間を割いて新人に基本的な知識を教えることができない、あるいは、過去に出願はしているけれども基本的なことからきちんと勉強してみたい、というお客様の声をお聞きしました。<br /> そこで、知的財産権を扱うご担当者様(事務ご担当者様含む)を対象にした知的財産権基礎研修サービスの開始を予定しております。<br />  割引料金で一部コンテンツをお試しいただけるモニター受講者募集中です。<br />  詳しくは<a href="https://www.patent.gr.jp/service/kenshu/streaming/index.html" target="_blank">ストリーミング研修</a>の紹介ページをご覧ください。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">3.特許調査DOサービスのご紹介</span><br />  コロナ禍などにより事業環境が大きく変わる中、「事業の継続・発展」を図るために、「特許」で何ができるかについて考えなければならないプレッシャーをお感じの方も多いのではないでしょうか。「特許」というと「出願・権利化」に目が行きがちですが、「事業戦略」に有効なのは、「出願・権利化」だけではありません。「特許調査」を主体とした『Defense』・『Offense』両面で提供する「サービス」(=「特許調査DOサービス」)によっても、「事業の継続・発展」を図ることが可能です。<br />  「特許調査DOサービス」では、単なる「特許調査」の枠にとらわれない「提案力」により、競合他社の特許等からお客様を『守り』つつ、事業の拡大・強化につながる『攻め』の活動をサポートいたします。<br />  詳しくは<a href="https://www.patent.gr.jp/service/chousa/index.html" target="_blank">特許調査DOサービス</a>の紹介ページをご覧ください。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">4.警告書対応、クリアランス調査・鑑定、異議申立・審判・裁判などの他社知財対応が増加しております</span><br />  ここ数年、意匠、商標、特許関連での権利交渉に対応させていただく事案が増加しております。お客様のご依頼で相手方へ出す警告書や、相手方から警告書をもらってしまったお客様からのご依頼で相手方へ返す回答書の作成、相手方との交渉方針の策定や交渉、契約書案の策定など、お客様のご要望に応じて、きめ細かく対応しております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">5.昨年4月1日に施行された改正意匠法</span><br />  2020年4月1日より、改正意匠法が施行されています。<br /> 登録可能になった画像や建築物・内装のデザインについて出願依頼やご相談を受ける機会が増えております。ご検討の方は是非ご連絡ください。<br />  詳しくは新着情報「<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74" target="_blank">改正意匠法(4月1日より施行)のご案内</a>」のページをご覧ください。本改正意匠法は、改正範囲が多岐にわたっており、簡単には理解しにくいものとなっております。また、改正意匠法によって保護対象となったデザインについては、日本と外国の間で意匠制度の違いが大きいため、当方が相談を受ける際には、このような点にも留意しながら、適切なアドバイスを提供しております。<br />  当方の意匠・商標部門の部門長である<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">小早川</a>に是非、お気軽にお問合せください。<br /> <br /> <br />  相変わらず不透明な経営環境が続くことが予想されますが、<br /> 「<span style="color:#ff0000;font-weight:bold;">知的財産を通じてお客様の事業目的達成に貢献する</span>」<br /> というミッションを実現すべく、これまで以上にお客様に寄り添い、お客様からの多様なニーズに対してお役に立てるサービスを提供させていただきます。<br />  その結果、『お客様に選んでいただき、選び続けていただける』名古屋国際特許業務法人となるよう、法人一丸となって努力していく所存であります。<br /> <br />  ※なお、本年は1月5日(火)より業務を開始いたします。<br />  本年も皆様のお役に立てる機会が多くなるよう祈念しております。 http://www.patent.gr.jp/ Fri, 01 Jan 2021 00:00:00 +0900 建築物、内装、画像の意匠が日本で初めて登録! http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7781916805fab8eb7c4464  令和2年4月1日から施行されている改正意匠法では、その保護対象が抜本的に見直され、それまでは保護対象とされていなかった建築物、内装、画像の意匠が保護対象となっています。<br /> <a href="https://www.jpo.go.jp/system/design/gaiyo/seidogaiyo/isyou_kaisei_2019.html#kaisei" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/design/gaiyo/seidogaiyo/isyou_kaisei_2019.html#kaisei</a><br /> <br />  この度、建築物、内装、画像の意匠が初めて意匠登録されたとのニースリリースが、経済産業省のHPに出されていましたのでご案内いたします。<br /> <br /> ・<a href="https://www.meti.go.jp/press/2020/11/20201102003/20201102003.html" target="_blank">「建築物、内装の意匠が初めて意匠登録されました」<br />  (経済産業省 ニースリリース 2020年11月2日付)</a><br /> <br /> ・<a href="https://www.meti.go.jp/press/2020/11/20201109002/20201109002.html" target="_blank">「画像の意匠が初めて意匠登録されました」<br />  (経済産業省 ニースリリース 2020年11月9日付)</a><br /> <br /> <br /> <span style="font-size:15px;line-height:130%;font-weight:bold;text-decoration:underline">1. 建築物の意匠</span><br /> 改正前は、意匠の保護対象となる「物品」は、「有体物である動産」を意味することから、不動産である建築物はその保護対象に含まれていませんでしたが、近年、空間のデザインを重視する観点から、企業が店舗の外観や内部の形状等に特徴的な工夫を凝らしてブランド価値を創出し、サービスの提供や製品の販売を行う事例が増えていることから、改正法にて、建築物の意匠が保護対象に含められたものです。<br /> <br /> 建築物の意匠として、下記が登録されています。<br /> <br /> &#9312;株式会社ファーストリテイリング 「商業用建築物」(<a href="https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/DE/JP-2020-006416/5780881C989225CDE1C531A07F7F7A64702CBE872F513D94A489E5E206160E7E/30/ja" target="_blank">意匠登録第1671773号</a>)<br /> &#9313;東日本旅客鉄道株式会社 「駅舎」(<a href="https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/DE/JP-2020-006473/9B18C87215FFDF0305CA05D8344CBBFF7EC0D699E261551B65EB0BD48ACF8EE0/30/ja" target="_blank">意匠登録第1671774号</a>)<br /> <br /> &#9312;株式会社ファーストリテイリングの意匠は、ユニクロPARK 横浜ベイサイド店の店舗、&#9313;東日本旅客鉄道株式会社の意匠は、上野駅公園口駅舎に関するもののようです。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R021111/image01.jpg" alt="建築物の意匠" width="400" height="293" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;"><a href="https://www.meti.go.jp/press/2020/11/20201102003/20201102003.html" target="_blank">経済産業省HPニースリリース 2020年11月2日付</a> から引用</span></center><br /> <br /> <span style="font-size:15px;line-height:130%;font-weight:bold;text-decoration:underline">2.内装の意匠</span><br /> 今回の改正により、建物の内装も保護されるようになっています。<br /> <br /> 内装の意匠としては、下記が掲載されています。<br /> <br /> &#9312;カルチュア・コンビニエンス・クラブ株式会社 「書店の内装」(<a href="https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/DE/JP-2020-006305/02F44EFA39A16A76AC7A1540A99410D30D0C77063F30AA9610036C73C7254EC9/30/ja" target="_blank">意匠登録第1671152号</a>)<br /> &#9313;くら寿司株式会社 「回転寿司店の内装」(<a href="https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/DE/JP-2020-006360/91F67597D12B4727A8DAF828A012EB98E946FE10E51957A30119AC358975CAE7/30/ja" target="_blank">意匠登録第1671153号</a>)<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R021111/image02.jpg" alt="内装の意匠" width="400" height="298" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;"><a href="https://www.meti.go.jp/press/2020/11/20201102003/20201102003.html" target="_blank">経済産業省HPニースリリース 2020年11月2日付</a> から引用</span></center><br /> <br /> <span style="font-size:15px;line-height:130%;font-weight:bold;text-decoration:underline">3.画像の意匠</span><br /> 今回の改正以前でも、物品の本来的な<span style="text-decoration:underline">機能を発揮できる状態にする際に必要となる操作に使用される画面上に表示された画像</span>(例えば、DVDプレイヤーの再生前の操作画像や携帯電話の通話前の操作画像等)は意匠の保護対象とされていました。ただし、改正前の法律では、<span style="text-decoration:underline">物品に記録されず、クラウド上から提供される画像</span>や、例えば、携帯電話のメール送信中の操作画像等の<span style="text-decoration:underline">物品がその機能を発揮させている状態の画像</span>や、<span style="text-decoration:underline">壁等に投影される画像</span>は保護の対象とはされていませでした。<br /> 一方、IoT等の新技術の普及に伴い、機器のGUI等が重要な役割を担うようになってきており、さらに、近年のセンサー技術や投影技術の発展によって、物品に表示されず、壁や人体等に投影される画像が出現し、利用者は場所に関わりなくGUIを出現させ、機器を操作することが可能となっているといった近年の技術動向の変化により、そのような画像についても意匠として登録ができることになっています。<br /> <br /> 画像の意匠としては、下記が掲載されています。<br /> <br /> &#9312;株式会社小糸製作所 「車両情報表示用画像」(<a href="https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/DE/JP-2020-006660/5BC4B95C8867D3B39C13193084911582C544089ABFFF7A7AE4BCAF5304F00C44/30/ja" target="_blank">意匠登録第1672383号</a>)<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R021111/image03.jpg" alt="画像の意匠" width="400" height="236" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;"><a href="https://www.meti.go.jp/press/2020/11/20201109002/20201109002.html" target="_blank">経済産業省HPニースリリース 2020年11月9日付</a> から引用</span></center><br /> <br /> この登録意匠(意匠登録第1672383号)の画像は、画像投影装置付き車両より路面に照射される画像で、走行時もしくは停車時に車両の周辺に照射され、外部から車両の存在を視認しやすくさせたり、運転手に車両周辺の路面の状況を視認しやすくさせたりするもののようです。また、車両が進行方向を変更するときに変更向きに応じて変化して照射されたりもするようです。<br /> <br /> なお、今回登録された建築物の意匠、及び内装の意匠は何れも現存する建築物等に関する意匠であるためか、何れも新規性喪失の例外の適用を受けて出願が行われているようです。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Wed, 11 Nov 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7779455665f71949d52252 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その4)<br /> 投稿のタイトルは、「Appleが医療機器の承認を取得」です。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-125.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020928/image01.jpg" alt="Appleが医療機器の承認を取得" width="450" height="308" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 29 Sep 2020 00:00:00 +0900 日本技術士会の会誌、月刊『技術士』の巻頭言を、当法人のオブ・カウ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=352204405f56d71c87cde <a href="https://www.engineer.or.jp/" target="_blank">公益社団法人日本技術士会</a>は、技術士制度の普及、啓発を図ることを目的とし、技術士法により明示された日本唯一の技術士による社団法人です。<br /> <br /> 日本技術士会の会誌である月刊『技術士』には、広く各界の著名人から、技術士または技術者に対するメッセージや提言が掲載される「巻頭言」というコーナーが冒頭に設けられております。今般、技術士会会員の方からの推薦を受けて、巻頭言を<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/index.html" target="_blank">中谷(弁理士)</a>が執筆することになりました。<br /> <br /> なお、執筆記事は、月刊『技術士』の9月号に掲載されています。(<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/documents/document01.pdf" target="_blank">こちら</a>から中谷の執筆記事をご覧頂けます。) http://www.patent.gr.jp/ Tue, 08 Sep 2020 00:00:00 +0900 複数意匠一括出願が2021年4月1日より可能となります(改正意匠法続報) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12434071885f212a4352861 2020年4月1日より、改正意匠法が施行されています。<br /> (なお、既に施行されている改正意匠法の概要は以下を確認ください<br /> (<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74" target="_blank">https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74</a>))<br /> <br /> この改正意匠法における改正事項のうち、施行時期が未定であった以下の2つについて2021年4月1日から施行されることになりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;">・複数意匠一括出願</span><br /> 現在、一意匠一出願の原則のもと、一件の出願には一つの意匠しか含めることはできません。<br /> しかし、2021年4月1日からは、一件の出願に複数の意匠を含めることができます。<br /> なお、審査は意匠毎に受け、一意匠ごとに一つの意匠権が発生することになります。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;">・物品区分表の廃止</span><br /> 意匠出願願書に記載する「意匠に係る物品」を定める「物品区分表」が廃止されます。<br /> これにより、「意匠に係る物品」について柔軟な記載が可能となり、「意匠に係る物品」<br /> に関する拒絶理由に該当する可能性が低くなることが期待されます。<br /> <br /> 当法人では、意匠審査基準、施行規則等についても最新の情報を入手し、皆様へ適切なアドバイス等ができるように研究を重ねております。<br /> そのため、今般の改正意匠法に関して何かご不明点等ございましたら、担当:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">弁理士 小早川</a>まで、お気軽にご連絡をいただけますと幸いです。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Wed, 29 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=19404628525f0fde8fe5ad4 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その3)<br /> 投稿のタイトルは、「手術ロボット(da Vinci)の特許切れ??」です。<br /> ※ご存知、手術ロボット「ダ・ヴィンチ」に関するトピックです。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-120.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image03.jpg" alt="手術ロボット(da Vinci)の特許切れ??" width="450" height="336" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=6714583595f0fe5226c35d 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その2)<br /> 投稿のタイトルは、「知財に関するモデル契約書の公表(NDAと記録管理の重要性)」です。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-122.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image02.jpg" alt="知財に関するモデル契約書の公表(NDAと記録管理の重要性)" width="450" height="335" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=1181120565f0fe56b4e0f6 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回は、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その1)<br /> 投稿のタイトルは、「医療機器分野の特許取得の状況について(5月~7月)」です。<br /> なお、「医療機器分野の特許取得の状況」については、当該ブログにおいて定期的にご紹介しています。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-123.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image04.jpg" alt="医療機器分野の特許取得の状況について(3月~5月)" width="450" height="336" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de 今回は、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">ブログ</a>についてご紹介します。<br /> <br />  このブログでは、弁理士&行政書士であって医療機器の薬事業務の経験のある山越が、主に医療機器の知財及び医薬品医療機器等法の情報などを提供しています。<br />  ご承知のように、特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法(旧薬事法)は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。<br />  この点、山越は、医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続の経験があり、知的財産を専門とする弁理士と、各種行政手続きを扱う行政書士の有資格者でもありますので、この領域に関係する方々にとって真に有益な情報を提供できると考えております。<br /> <br /> この機会に、弁理士山越の「知財と薬事と医療機器のブログ」を是非ご覧ください。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image01.jpg" alt="知財と薬事と医療機器のブログ" width="450" height="327" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 20 Jul 2020 00:00:00 +0900 サービスページ 更新のお知らせ http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=20239578255efe75790deaf 当法人のサービスページを更新しました。<br /> 新しいサービスページは「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/index.html" target="_blank">こちら</a>」です。<br /> <br /> 更新の主な内容は次の通りです。<br /> ・特許調査DOサービスを新設しました。<br /> <br /> 当法人では、従前より同サービスを提供し、既にご愛顧頂いておりますが、より多くの方にまずは知ってもらうことを目的に、この度の掲載に至りました。<br /> <br /> 特許調査DOサービスの「DO」は、特許調査を通じて、真に「役立つ」ため、「Defense」と「Offense」の両面で、お客様にサービスを提供すべきとの思いが込められています。<br /> <br /> 詳しくは、「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/chousa/index.html" target="_blank">こちら</a>」から、特許調査DOサービスのページをご覧ください。<br /> <br /> また、各ページの下欄から「お問い合わせ」いただけるようにしています。<br /> ご相談やご要望等がございましたらいつでもご連絡ください。お待ちしております。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Fri, 03 Jul 2020 00:00:00 +0900 弁理士増員のお知らせ(滝沢和雄・羽二生真理子・岩附紘子・辻奈都子) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=9339618775ef3f00333b25 下記4名が新たに弁理士登録をいたしました。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 滝沢 和雄(タキザワ カズオ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/takizawa/index.html" target="_blank">滝沢 和雄</a>」をご覧ください。<br />  弁理士滝沢和雄は、東京大学大学院において物質系を専攻し、企業勤務を経て2015年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  滝沢は、「何事も前向きに」を信条としており、機械、制御系を主に担当しておりますが、学生時代には有機化学・導電性高分子などを専攻し、企業時代にはプログラミングの経験もあります。<br />  また、知的財産アナリスト(特許)・一級知的財産管理技能士(特許)の資格も有しております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 羽二生 真理子(ハニウ マリコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/haniu/index.html" target="_blank">羽二生 真理子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士羽二生は、東京大学大学院においてバイオエンジニアリングを専攻し、企業勤務を経て2018年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  羽二生は、「発明を発掘し権利化へ導く力になります」を信条としており、高分子材料・有機材料・無機材料・バイオマテリアル等の材料全般、自動車関連技術、半導体デバイスを得意としております。<br />  企業(キヤノン)時代は知財部に所属しており、特許事務所へ依頼する「お客様」側の立場の経験もあります。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 岩附 紘子(イワツキ ヒロコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwatsuki/index.html" target="_blank">岩附 紘子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士岩附は、名古屋大学大学院において物質制御工学を専攻し、企業経験を経て2019年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  岩附は、「お客様の”夢”の実現を知財の面から支えます」を信条としており、化学、材料、機械、制御、ソフトウェアを専門としますが、特に、高分子材料・有機材料・無機材料などの材料全般、各種車載装置、車両制御等を扱っております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 辻 奈都子(ツジ ナツコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/n-tsuji/index.html" target="_blank">辻 奈都子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士辻は、京都大学大学院において統合生命科学を専攻し、企業経験を経て2018年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  辻は、「ご要望に沿った権利が取得できるよう全力を尽くします」を信条としており、バイオ、医薬、食品、化学、機械の案件を主に担当しております。<br />  企業時代には薬事関連業務を主に行う一方、知財業務にも関わる機会がありました。<br /> <br /> <br /> 当法人では、新たに増員した上記4名の弁理士を含め、種々の分野で専門的なバックグラウンドを持つ総勢30名弱の弁理士を中心とし、「大切な知的財産の保護・活用のため、お客様の多様なニーズに誠実にお応え」すべく、これまで以上に上質なサービスを提供していく所存であります。<br /> 何卒よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 25 Jun 2020 00:00:00 +0900 改正意匠法(4月1日より施行)のご案内 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74 2020年4月1日より、改正意匠法が施行されています。<br /> 以下、改正意匠法のうち特に重要と考えられる事項について、その概要をご紹介いたします。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">1.保護対象の拡充</span><br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(1)画像意匠</span><br /> これまでは、画像意匠について、物品に記録・表示されていなければ保護されませんでした。<br /> しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">物品に記録等されていない画像(クラウド上に記録され、ネットワークを通じて提供される画像や、壁等に投影される画像)も画像意匠として保護することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(2)建築物、内装のデザイン</span><br />  これまでは、建築物といった不動産(内装含む)のデザインについて、量産される「組立家屋」等に該当する場合を除き保護されませんでした。<br /> しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">建築物のデザイン(内装デザイン含む)も、建築物の意匠、内装の意匠として保護することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">2.関連意匠制度の拡充</span><br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(1)出願可能期間の変更</span><br />  これまでは、本意匠の公報発行日前まで(約8ヶ月)に関連意匠として出願をする必要が<br /> あり、公報発行日以後は、関連意匠としての出願は認められませんでした。<br />  しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">本意匠(基礎意匠(最先の本意匠)があれば基礎意匠)の出願から10年以内であれば、関連意匠として出願することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(2)関連意匠に「のみ」類似する意匠の保護</span><br />  これまでは、本意匠に類似する意匠のみ、関連意匠としての登録が認められており、関連意匠に「のみ」類似する意匠について関連意匠としての登録は認められませんでした。<br />  しかし、改正意匠法施行後は、前述の出願可能期間内であれば、<span style="text-decoration:underline">関連意匠に「のみ」類似する意匠についても関連意匠としての登録が認められる</span>こととなりました。<br /> <br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">3.その他</span><br />  下記事項も改正されていますので、項目のみとはなりますが、ご紹介します。<br /> <br /> (1)存続期間の変更(登録日から20年→出願日から25年)<br /> (2)創作非容易性水準の明確化<br /> (3)間接侵害規定の拡充<br /> (4)損害賠償額算定方法の見直し<br /> (5)組物の意匠対象の拡充<br /> <br /> 以上ご紹介しました今般の改正意匠法に関し、当法人では、昨年11月にいち早くセミナーを行い皆様に詳しくご紹介を行っており(<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a" target="_blank">当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?』</a>)、セミナー開催後も改正意匠法の施行に伴ってその内容が改正された意匠審査基準、施行規則等についても最新の情報を入手し、皆様へ適切なアドバイス等ができるように研究を重ねております。<br /> そのため、今般の改正意匠法に関して何かご不明点等ございましたら、担当:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">弁理士 小早川</a>まで、お気軽にご連絡をいただけますと幸いです。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 01 Apr 2020 00:00:00 +0900 新型コロナウイルス感染症への対応について http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=9319863645e6b310fa14e0 当法人では、新型コロナウイルス感染症の感染予防および拡散防止のため、以下の対応を実施・推進しております。ご理解、ご協力を賜わりますようお願い申し上げます。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■マスクの着用</span><br />  当法人の従業員が会議等の場でマスクを着用している場合がございます。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■Web会議、電話会議の実施</span><br />  当法人ではWeb会議や電話会議等のリモートによる会議システムを導入しております。<br />  Web会議や電話会議でのお打合せをご希望される場合は、ご遠慮なくお申し付けください。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■時差出勤の推進</span><br />  公共交通機関利用による感染リスクを低減するため、従業員の時差出勤を進めています。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■在宅勤務の推進</span><br />  公共交通機関利用による感染リスクを低減しつつ効率の向上を図るために、情報セキュリティ対策を講じた上で、業務内容に応じた在宅勤務を進めています。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 16 Mar 2020 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7812597735e265e900b6b7 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ5をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ5のテーマは「RESTRICTIONS(Avoiding Restrictions)」です。<br /> ※RESTRICTIONS(限定要求)とは、米国特許出願において、2以上独立した別個の発明が一出願中にクレームされている場合に、審査官が出願人に対し、発明を選択してクレームを限定するよう要求することをいいます。この限定要求は、通常、実体的拒絶通知の前に行われます。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、彼ならではの実経験に基づく内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ5のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech5.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jan 2020 00:00:00 +0900 関東経済産業局、山梨県、(公財)やまなし産業支援機構、(一社)山 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=733964545e1d1db5c63f3  この度、にて、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越淳(弁理士)</a>が、<span style="font-weight:bold;color:#FF0000;">『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』</span>というテーマで下記セミナーに講師として参加いたしました。<br /> <br /> <a href="http://www.jiii.or.jp/semina/pdf/20191127_1219_0129_yamanashi.pdf?v=2" target="_blank">令和元年度 戦略的知財マネジメント促進事業 知財セミナー</a><br /> 「医療機器の製品化を目指す企業のための知的財産セミナー」<br /> 主催:関東経済産業局、山梨県、(公財)やまなし産業支援機構、(一社)山梨県発明協会<br /> 後援:特許庁<br /> 実施機関:一般社団法人発明推進協会<br /> <br /> 場所:<a href="https://www.yiso.or.jp/messe/information.html" target="_blank">アイメッセ山梨</a><br /> 日時:令和元年12月19日(木) <br /> 13:30~16:30 <br /> <br />  特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。今回のセミナーでは医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続きの経験もある山越が、医療機器の開発にあたって留意すべき特許法上の規定の説明や、医薬品医療機器等法と特許法の対比説明を行い、医療機器産業に参入する際に、この二つの法律のどのような点を考慮した上で、どのような事業戦略を進めていけば良いかについてお話をさせていただきました。<br />  また、医薬品医療機器等法にも詳しい弁理士ならではの観点から、過去の経験等に基づき、医療機器産業に参入する上で想定されるビジネス上のリスクや問題、医療機器の開発、製造、販売に当たって留意すべき事項等について、過去の経験等に基づく事例を上げ、そのノウハウをご説明いたしました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020114/image01.jpg" alt="医療機器の製品化を目指す企業のための知的財産セミナー" width="400" height="162" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br />  講演後の質疑応答では、実際に直面している問題等に関する質問や、特に中小企業が医療機器開発を行う上で留意すべき事項に関する質問などがされるとともに、参加者を交えた幅広い議論が行われ、医療機器産業への関心の高さを改めて伺う事ができました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキストをご希望の方は、【関東経済産業局、山梨県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望】の旨と、【貴社名、および担当者名】をご記載のうえ、<a href="mailto:yamakoshi@patent.gr.jp?subject=関東経済産業局、山梨県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望&amp;body=※【貴社名、および担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 14 Jan 2020 00:00:00 +0900 新年のご挨拶 2020年1月1日 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7661790495e016d06158c2 <img src="http://patent.gr.jp/news/images/shinnen/image01.gif" alt="謹賀新年" /><br /> <br /> 新春を迎え皆々様のご多幸をお祈り申し上げます。<br /> 旧年中は、格別のお引き立てを賜り、誠にありがとうございました。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">1.現在の当法人の状況</span></span><br />  24名の日本弁理士、1名の米国特許弁護士、2名の中国弁理士試験合格者を含む総勢80名の規模となりました。当法人HPの<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/index.html" target="_blank">弁理士紹介</a>をご覧下さい。<br />  昨年4月に入社し8月に新規弁理士登録した<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yoshimoto/index.html" target="_blank">吉元梨江子</a>は、国内外の意匠商標実務に関する知見が深く、また出願手続等や方式手続も得意としております。<br />  昨年10月にオブ・カウンセルとして新たに参画した弁理士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/index.html" target="_blank">中谷智子</a>は、製薬企業、ベンチャーキャピタルでの経験を経て、バイオベンチャーと大学の知財支援に長年従事しております。中谷は、「お客様自らが知財戦略を策定できる知恵と知識を提供する」ことを信条としており、法律とビジネスの両面からお客様の知財戦略を支援します。<br />  また、2019年度の弁理士試験において、幸いにも当法人から4名の合格者を輩出することができました。登録前の研修を修了する今春には、弁理士がさらに増えることとなります。 <br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">2.警告書対応、クリアランス調査・鑑定、異議申立・審判・裁判などの他社知財対応が増加しております</span></span><br />  近年、意匠、商標、特許関連での交渉に対応させていただく事案が増加しております。<br />  警告書や回答書の作成、相手先企業との交渉方針の策定や交渉、契約書案の策定など、お客様のご要望に応じて、きめ細かく対応しております。<br />  また、事前にリスクを回避するためのクリアランス調査や、事後的な対応としての無効調査、調査結果に基づく各種鑑定業務など、知財戦略を策定する上で必要な種々案件も増加しております。<br />  意匠・商標関連の知財紛争業務のご要望は引き続き多くなっております。意匠・商標部門では、部門長の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">小早川</a>が、経験豊富なスタッフと共に、皆様のご要望にきめ細かに対応いたします。<br />  当法人としましては、お客様の知財戦略の策定支援、知財紛争の解決支援を行うことで、お客様にしっかりと貢献していきたいと考えております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">3.意匠法に関する改正法の施行及び知財訴訟制度の見直し</span></span><br />  意匠法に関する改正法の施行及び知財訴訟制度の見直しが2020年に予定されています。昨年11月22日に、当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?』を開催しました。<br />  その報告を<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a" target="_blank">新着情報</a>にて掲載しておりますので、ご参照ください。<br />  まず第1部では、<br />  ・意匠法改正の内容(画像デザインの保護拡充、空間デザインの保護、関連意匠制度)<br />  ・意匠審査基準の改訂内容<br />  ・海外の登録例 等<br /> 改正意匠法の内容について説明させていただきました。<br />  続いて第2部では、<br />  ・法改正の内容(査証制度の導入、損害賠償額の算定に関する変更)<br />  ・知財戦略(出願前の局面、審査の局面、権利行使の局面等) 等<br /> 知財訴訟制度の見直しについて説明させていただきました。<br />  特に意匠に関しては、本年4月1日より改正意匠法に含まれるほとんどの規定が施行されます。改正範囲が多岐にわたる大改正です。ご要望頂けましたら、貴社に適切に対応した改正意匠法の活用法についてのご説明・ご提案を行いますので、是非、お気軽にお問合せください。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">4.お客様企業のグローバルな知財活動を支援致します!</span></span><br />  国際的な知財契約交渉に対応させていただく事案が増加しております。競合する外国企業が外国にて行っている訴訟・審判の手続状況をつぶさにウォッチングしつつ、お客様に選択可能な戦略・戦術上のオプションをご紹介する活動を行っています。また、事前準備を適切に行った上で、相手方の外国企業や外国代理人事務所にお客様と共に訪問して交渉を行ったり、電話会議にて継続的に交渉を進めたり、と、お客様のグローバル活動を支援する案件にお役に立たせていただいております。<br />  また、外国出願案件においても、重要な案件である場合には、お客様のご依頼に応じて、日本弁理士が、当法人内部の米国特許弁護士や中国弁理士試験合格者と適宜協力しつつ、共同で案件対応を進めている外国代理人と、電話会議やテレビ会議をして、方針の詳細を決める事案が多々発生しております。紙面での連絡だけでは得られない相互理解を実現しつつ、案件に関する適切な対応を進めております。<br /> <br />  相変わらず不透明な経営環境が続くことが予想されますが、<br /> 「<span style="color:#ff0000;font-weight:bold;">知的財産を通じてお客様の事業目的達成に貢献する</span>」<br /> というミッションを実現すべく、これまで以上にお客様に寄り添い、お客様からの多様なニーズに対してお役に立てるサービスを提供させていただきます。<br />  その結果、『お客様に選んでいただき、選び続けていただける』名古屋国際特許業務法人となるよう、法人一丸となって努力していく所存であります。<br /> <br />  ※なお、本年は1月6日(月)より業務を開始いたします。<br />  本年も皆様のお役に立てる機会が多くなるよう祈念しております。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 01 Jan 2020 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=13362474815e044dadb2566 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ4をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ4のテーマは「A DAY in the LIFE of a PATENT EXAMINER」です。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、彼ならではの実経験に基づく内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ4のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech4.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Fri, 27 Dec 2019 00:00:00 +0900 当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしま ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a この度、当法人主催セミナーにおいて、<br /> <a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=6972213745d959813ed859" target="_blank">2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?</a><br /> というテーマで講演を行いました。<br /> <br />  主催:名古屋国際特許業務法人<br />  場所:ウインクあいち<br />  日時:令和元年11月22日(金)14:00~16:45<br />  講師:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/okamoto/index.html" target="_blank">岡本</a>(当法人代表)、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/ishihara/index.html" target="_blank">石原</a>(当法人副代表)、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">小早川</a>(当法人弁理士)<br /> <br />  まず第1部では、<br />    ・意匠法改正の内容(画像デザインの保護拡充、空間デザインの保護、関連意匠制度)<br />    ・意匠審査基準の改訂内容<br />    ・海外の登録例 等<br /> 改正意匠法の内容について説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image01.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br />  続いて第2部では、<br />    ・法改正の内容(査証制度の導入、損害賠償額の算定に関する変更)<br />    ・知財戦略(出願前の局面、審査の局面、権利行使の局面等) 等<br /> 知財訴訟制度の見直しについて説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image02.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br />  最後に、第3部では、<br />    ・自社、競合会社、協業会社の分析方法<br />    ・新しい事業領域又は注力すべき事業領域を探す手法 等<br /> 特許情報を主とした戦略的な調査・分析について説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image03.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br />  本セミナーは予想を大きく上回る受講希望がありました。また、講演後のアンケートや懇親会での意見交換を通して、2020年施行の法改正について受講者の関心の高さが伺えました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキスト等をご希望の方は、【名古屋国際特許主催セミナー(11/22開催)のテキスト希望】の旨と、【貴社名、及び、ご担当者名】をご記載の上、<a href="mailto:daihyo@patent.gr.jp?subject=【名古屋国際特許主催セミナー(11/22開催)のテキスト希望】&amp;body=※【貴社名、及び、担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 10 Dec 2019 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=20316166575de0684060ed4 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ3をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ3のテーマは「AFCP2.0」です。<br /> ※AFCP2.0(After Final Consideration Pilot 2.0)プログラムとは、米国特許商標庁が提供する試験的なプログラムであり、ファイナル・アクションの発行後における審査手続の効率を高めるためのものです。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、実際に「AFCP2.0」に基づく実務を行っていた彼ならではの経験に基づく、興味深い内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ3のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech3.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 02 Dec 2019 00:00:00 +0900