名古屋国際特許業務法人-新着情報 名古屋国際特許業務法人の新着情報フィードです。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 29 Sep 2020 16:59:17 +0900 FeedCreator 1.7.2-ppt (info@mypapit.net) ja 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7779455665f71949d52252 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その4)<br /> 投稿のタイトルは、「Appleが医療機器の承認を取得」です。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-125.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020928/image01.jpg" alt="Appleが医療機器の承認を取得" width="450" height="308" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 29 Sep 2020 00:00:00 +0900 日本技術士会の会誌、月刊『技術士』の巻頭言を、当法人のオブ・カウ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=352204405f56d71c87cde <a href="https://www.engineer.or.jp/" target="_blank">公益社団法人日本技術士会</a>は、技術士制度の普及、啓発を図ることを目的とし、技術士法により明示された日本唯一の技術士による社団法人です。<br /> <br /> 日本技術士会の会誌である月刊『技術士』には、広く各界の著名人から、技術士または技術者に対するメッセージや提言が掲載される「巻頭言」というコーナーが冒頭に設けられております。今般、技術士会会員の方からの推薦を受けて、巻頭言を<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/index.html" target="_blank">中谷(弁理士)</a>が執筆することになりました。<br /> <br /> なお、執筆記事は、月刊『技術士』の9月号に掲載されています。(<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/documents/document01.pdf" target="_blank">こちら</a>から中谷の執筆記事をご覧頂けます。) http://www.patent.gr.jp/ Tue, 08 Sep 2020 00:00:00 +0900 複数意匠一括出願が2021年4月1日より可能となります(改正意匠法続報) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12434071885f212a4352861 2020年4月1日より、改正意匠法が施行されています。<br /> (なお、既に施行されている改正意匠法の概要は以下を確認ください<br /> (<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74" target="_blank">https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74</a>))<br /> <br /> この改正意匠法における改正事項のうち、施行時期が未定であった以下の2つについて2021年4月1日から施行されることになりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;">・複数意匠一括出願</span><br /> 現在、一意匠一出願の原則のもと、一件の出願には一つの意匠しか含めることはできません。<br /> しかし、2021年4月1日からは、一件の出願に複数の意匠を含めることができます。<br /> なお、審査は意匠毎に受け、一意匠ごとに一つの意匠権が発生することになります。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;">・物品区分表の廃止</span><br /> 意匠出願願書に記載する「意匠に係る物品」を定める「物品区分表」が廃止されます。<br /> これにより、「意匠に係る物品」について柔軟な記載が可能となり、「意匠に係る物品」<br /> に関する拒絶理由に該当する可能性が低くなることが期待されます。<br /> <br /> 当法人では、意匠審査基準、施行規則等についても最新の情報を入手し、皆様へ適切なアドバイス等ができるように研究を重ねております。<br /> そのため、今般の改正意匠法に関して何かご不明点等ございましたら、担当:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">弁理士 小早川</a>まで、お気軽にご連絡をいただけますと幸いです。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Wed, 29 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=19404628525f0fde8fe5ad4 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その3)<br /> 投稿のタイトルは、「手術ロボット(da Vinci)の特許切れ??」です。<br /> ※ご存知、手術ロボット「ダ・ヴィンチ」に関するトピックです。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-120.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image03.jpg" alt="手術ロボット(da Vinci)の特許切れ??" width="450" height="336" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=6714583595f0fe5226c35d 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回も、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その2)<br /> 投稿のタイトルは、「知財に関するモデル契約書の公表(NDAと記録管理の重要性)」です。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-122.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image02.jpg" alt="知財に関するモデル契約書の公表(NDAと記録管理の重要性)" width="450" height="335" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」の投稿をご紹介 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=1181120565f0fe56b4e0f6 先日、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">「知財と薬事と医療機器のブログ」</a>についてご紹介しました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de" target="_blank">当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介</a><br /> <br /> 今回は、山越のブログにおける投稿をご紹介します。(その1)<br /> 投稿のタイトルは、「医療機器分野の特許取得の状況について(5月~7月)」です。<br /> なお、「医療機器分野の特許取得の状況」については、当該ブログにおいて定期的にご紹介しています。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/blog-entry-123.html" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image04.jpg" alt="医療機器分野の特許取得の状況について(3月~5月)" width="450" height="336" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> この機会に是非ご覧ください。<br /> ※今後も、山越のブログにおける投稿をご紹介していきたいと思います。<br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jul 2020 00:00:00 +0900 当法人の山越淳(弁理士)の「知財と薬事と医療機器のブログ」のご紹介 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2742499665f0fd6d44c6de 今回は、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">弁理士山越</a>の<a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank">ブログ</a>についてご紹介します。<br /> <br />  このブログでは、弁理士&行政書士であって医療機器の薬事業務の経験のある山越が、主に医療機器の知財及び医薬品医療機器等法の情報などを提供しています。<br />  ご承知のように、特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法(旧薬事法)は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。<br />  この点、山越は、医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続の経験があり、知的財産を専門とする弁理士と、各種行政手続きを扱う行政書士の有資格者でもありますので、この領域に関係する方々にとって真に有益な情報を提供できると考えております。<br /> <br /> この機会に、弁理士山越の「知財と薬事と医療機器のブログ」を是非ご覧ください。<br /> <center><a href="http://atsushiyamakoshi.blog.fc2.com/" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020716/image01.jpg" alt="知財と薬事と医療機器のブログ" width="450" height="327" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></a><br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">↑画像をクリックするとブログに移動します。</span></center><br /> <br /> 当法人は、上記弁理士をはじめとして各分野の専門的スタッフを有しており、お客様の多様なニーズに誠実にお応えして上質なサービスを提供することで、お客様の大切な知的財産の保護・活用に貢献していきます。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 20 Jul 2020 00:00:00 +0900 サービスページ 更新のお知らせ http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=20239578255efe75790deaf 当法人のサービスページを更新しました。<br /> 新しいサービスページは「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/index.html" target="_blank">こちら</a>」です。<br /> <br /> 更新の主な内容は次の通りです。<br /> ・特許調査DOサービスを新設しました。<br /> <br /> 当法人では、従前より同サービスを提供し、既にご愛顧頂いておりますが、より多くの方にまずは知ってもらうことを目的に、この度の掲載に至りました。<br /> <br /> 特許調査DOサービスの「DO」は、特許調査を通じて、真に「役立つ」ため、「Defense」と「Offense」の両面で、お客様にサービスを提供すべきとの思いが込められています。<br /> <br /> 詳しくは、「<a href="https://www.patent.gr.jp/service/chousa/index.html" target="_blank">こちら</a>」から、特許調査DOサービスのページをご覧ください。<br /> <br /> また、各ページの下欄から「お問い合わせ」いただけるようにしています。<br /> ご相談やご要望等がございましたらいつでもご連絡ください。お待ちしております。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Fri, 03 Jul 2020 00:00:00 +0900 弁理士増員のお知らせ(滝沢和雄・羽二生真理子・岩附紘子・辻奈都子) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=9339618775ef3f00333b25 下記4名が新たに弁理士登録をいたしました。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 滝沢 和雄(タキザワ カズオ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/takizawa/index.html" target="_blank">滝沢 和雄</a>」をご覧ください。<br />  弁理士滝沢和雄は、東京大学大学院において物質系を専攻し、企業勤務を経て2015年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  滝沢は、「何事も前向きに」を信条としており、機械、制御系を主に担当しておりますが、学生時代には有機化学・導電性高分子などを専攻し、企業時代にはプログラミングの経験もあります。<br />  また、知的財産アナリスト(特許)・一級知的財産管理技能士(特許)の資格も有しております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 羽二生 真理子(ハニウ マリコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/haniu/index.html" target="_blank">羽二生 真理子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士羽二生は、東京大学大学院においてバイオエンジニアリングを専攻し、企業勤務を経て2018年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  羽二生は、「発明を発掘し権利化へ導く力になります」を信条としており、高分子材料・有機材料・無機材料・バイオマテリアル等の材料全般、自動車関連技術、半導体デバイスを得意としております。<br />  企業(キヤノン)時代は知財部に所属しており、特許事務所へ依頼する「お客様」側の立場の経験もあります。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 岩附 紘子(イワツキ ヒロコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/iwatsuki/index.html" target="_blank">岩附 紘子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士岩附は、名古屋大学大学院において物質制御工学を専攻し、企業経験を経て2019年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  岩附は、「お客様の”夢”の実現を知財の面から支えます」を信条としており、化学、材料、機械、制御、ソフトウェアを専門としますが、特に、高分子材料・有機材料・無機材料などの材料全般、各種車載装置、車両制御等を扱っております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#191970;text-decoration:underline">■弁理士 辻 奈都子(ツジ ナツコ)</span><br />  詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/n-tsuji/index.html" target="_blank">辻 奈都子</a>」をご覧ください。<br />  弁理士辻は、京都大学大学院において統合生命科学を専攻し、企業経験を経て2018年に当法人に入社し、今般弁理士登録をいたしました。<br />  辻は、「ご要望に沿った権利が取得できるよう全力を尽くします」を信条としており、バイオ、医薬、食品、化学、機械の案件を主に担当しております。<br />  企業時代には薬事関連業務を主に行う一方、知財業務にも関わる機会がありました。<br /> <br /> <br /> 当法人では、新たに増員した上記4名の弁理士を含め、種々の分野で専門的なバックグラウンドを持つ総勢30名弱の弁理士を中心とし、「大切な知的財産の保護・活用のため、お客様の多様なニーズに誠実にお応え」すべく、これまで以上に上質なサービスを提供していく所存であります。<br /> 何卒よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 25 Jun 2020 00:00:00 +0900 改正意匠法(4月1日より施行)のご案内 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=3432200215e86ba52d7e74 2020年4月1日より、改正意匠法が施行されています。<br /> 以下、改正意匠法のうち特に重要と考えられる事項について、その概要をご紹介いたします。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">1.保護対象の拡充</span><br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(1)画像意匠</span><br /> これまでは、画像意匠について、物品に記録・表示されていなければ保護されませんでした。<br /> しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">物品に記録等されていない画像(クラウド上に記録され、ネットワークを通じて提供される画像や、壁等に投影される画像)も画像意匠として保護することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(2)建築物、内装のデザイン</span><br />  これまでは、建築物といった不動産(内装含む)のデザインについて、量産される「組立家屋」等に該当する場合を除き保護されませんでした。<br /> しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">建築物のデザイン(内装デザイン含む)も、建築物の意匠、内装の意匠として保護することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">2.関連意匠制度の拡充</span><br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(1)出願可能期間の変更</span><br />  これまでは、本意匠の公報発行日前まで(約8ヶ月)に関連意匠として出願をする必要が<br /> あり、公報発行日以後は、関連意匠としての出願は認められませんでした。<br />  しかし、改正意匠法施行後は、<span style="text-decoration:underline">本意匠(基礎意匠(最先の本意匠)があれば基礎意匠)の出願から10年以内であれば、関連意匠として出願することが可能</span>となりました。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:14px;line-height:150%;">(2)関連意匠に「のみ」類似する意匠の保護</span><br />  これまでは、本意匠に類似する意匠のみ、関連意匠としての登録が認められており、関連意匠に「のみ」類似する意匠について関連意匠としての登録は認められませんでした。<br />  しかし、改正意匠法施行後は、前述の出願可能期間内であれば、<span style="text-decoration:underline">関連意匠に「のみ」類似する意匠についても関連意匠としての登録が認められる</span>こととなりました。<br /> <br /> <br /> <span style="font-weight:bold;font-size:16px;line-height:200%;color:#ff0000;text-decoration:underline">3.その他</span><br />  下記事項も改正されていますので、項目のみとはなりますが、ご紹介します。<br /> <br /> (1)存続期間の変更(登録日から20年→出願日から25年)<br /> (2)創作非容易性水準の明確化<br /> (3)間接侵害規定の拡充<br /> (4)損害賠償額算定方法の見直し<br /> (5)組物の意匠対象の拡充<br /> <br /> 以上ご紹介しました今般の改正意匠法に関し、当法人では、昨年11月にいち早くセミナーを行い皆様に詳しくご紹介を行っており(<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a" target="_blank">当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?』</a>)、セミナー開催後も改正意匠法の施行に伴ってその内容が改正された意匠審査基準、施行規則等についても最新の情報を入手し、皆様へ適切なアドバイス等ができるように研究を重ねております。<br /> そのため、今般の改正意匠法に関して何かご不明点等ございましたら、担当:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">弁理士 小早川</a>まで、お気軽にご連絡をいただけますと幸いです。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 01 Apr 2020 00:00:00 +0900 新型コロナウイルス感染症への対応について http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=9319863645e6b310fa14e0 当法人では、新型コロナウイルス感染症の感染予防および拡散防止のため、以下の対応を実施・推進しております。ご理解、ご協力を賜わりますようお願い申し上げます。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■マスクの着用</span><br />  当法人の従業員が会議等の場でマスクを着用している場合がございます。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■Web会議、電話会議の実施</span><br />  当法人ではWeb会議や電話会議等のリモートによる会議システムを導入しております。<br />  Web会議や電話会議でのお打合せをご希望される場合は、ご遠慮なくお申し付けください。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■時差出勤の推進</span><br />  公共交通機関利用による感染リスクを低減するため、従業員の時差出勤を進めています。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;line-height:130%;">■在宅勤務の推進</span><br />  公共交通機関利用による感染リスクを低減しつつ効率の向上を図るために、情報セキュリティ対策を講じた上で、業務内容に応じた在宅勤務を進めています。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 16 Mar 2020 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7812597735e265e900b6b7 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ5をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ5のテーマは「RESTRICTIONS(Avoiding Restrictions)」です。<br /> ※RESTRICTIONS(限定要求)とは、米国特許出願において、2以上独立した別個の発明が一出願中にクレームされている場合に、審査官が出願人に対し、発明を選択してクレームを限定するよう要求することをいいます。この限定要求は、通常、実体的拒絶通知の前に行われます。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、彼ならではの実経験に基づく内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ5のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech5.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 21 Jan 2020 00:00:00 +0900 関東経済産業局、山梨県、(公財)やまなし産業支援機構、(一社)山 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=733964545e1d1db5c63f3  この度、にて、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越淳(弁理士)</a>が、<span style="font-weight:bold;color:#FF0000;">『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』</span>というテーマで下記セミナーに講師として参加いたしました。<br /> <br /> <a href="http://www.jiii.or.jp/semina/pdf/20191127_1219_0129_yamanashi.pdf?v=2" target="_blank">令和元年度 戦略的知財マネジメント促進事業 知財セミナー</a><br /> 「医療機器の製品化を目指す企業のための知的財産セミナー」<br /> 主催:関東経済産業局、山梨県、(公財)やまなし産業支援機構、(一社)山梨県発明協会<br /> 後援:特許庁<br /> 実施機関:一般社団法人発明推進協会<br /> <br /> 場所:<a href="https://www.yiso.or.jp/messe/information.html" target="_blank">アイメッセ山梨</a><br /> 日時:令和元年12月19日(木) <br /> 13:30~16:30 <br /> <br />  特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。今回のセミナーでは医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続きの経験もある山越が、医療機器の開発にあたって留意すべき特許法上の規定の説明や、医薬品医療機器等法と特許法の対比説明を行い、医療機器産業に参入する際に、この二つの法律のどのような点を考慮した上で、どのような事業戦略を進めていけば良いかについてお話をさせていただきました。<br />  また、医薬品医療機器等法にも詳しい弁理士ならではの観点から、過去の経験等に基づき、医療機器産業に参入する上で想定されるビジネス上のリスクや問題、医療機器の開発、製造、販売に当たって留意すべき事項等について、過去の経験等に基づく事例を上げ、そのノウハウをご説明いたしました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R020114/image01.jpg" alt="医療機器の製品化を目指す企業のための知的財産セミナー" width="400" height="162" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br />  講演後の質疑応答では、実際に直面している問題等に関する質問や、特に中小企業が医療機器開発を行う上で留意すべき事項に関する質問などがされるとともに、参加者を交えた幅広い議論が行われ、医療機器産業への関心の高さを改めて伺う事ができました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキストをご希望の方は、【関東経済産業局、山梨県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望】の旨と、【貴社名、および担当者名】をご記載のうえ、<a href="mailto:yamakoshi@patent.gr.jp?subject=関東経済産業局、山梨県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望&amp;body=※【貴社名、および担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 14 Jan 2020 00:00:00 +0900 新年のご挨拶 2020年1月1日 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=7661790495e016d06158c2 <img src="http://patent.gr.jp/news/images/shinnen/image01.gif" alt="謹賀新年" /><br /> <br /> 新春を迎え皆々様のご多幸をお祈り申し上げます。<br /> 旧年中は、格別のお引き立てを賜り、誠にありがとうございました。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">1.現在の当法人の状況</span></span><br />  24名の日本弁理士、1名の米国特許弁護士、2名の中国弁理士試験合格者を含む総勢80名の規模となりました。当法人HPの<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/index.html" target="_blank">弁理士紹介</a>をご覧下さい。<br />  昨年4月に入社し8月に新規弁理士登録した<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yoshimoto/index.html" target="_blank">吉元梨江子</a>は、国内外の意匠商標実務に関する知見が深く、また出願手続等や方式手続も得意としております。<br />  昨年10月にオブ・カウンセルとして新たに参画した弁理士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/index.html" target="_blank">中谷智子</a>は、製薬企業、ベンチャーキャピタルでの経験を経て、バイオベンチャーと大学の知財支援に長年従事しております。中谷は、「お客様自らが知財戦略を策定できる知恵と知識を提供する」ことを信条としており、法律とビジネスの両面からお客様の知財戦略を支援します。<br />  また、2019年度の弁理士試験において、幸いにも当法人から4名の合格者を輩出することができました。登録前の研修を修了する今春には、弁理士がさらに増えることとなります。 <br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">2.警告書対応、クリアランス調査・鑑定、異議申立・審判・裁判などの他社知財対応が増加しております</span></span><br />  近年、意匠、商標、特許関連での交渉に対応させていただく事案が増加しております。<br />  警告書や回答書の作成、相手先企業との交渉方針の策定や交渉、契約書案の策定など、お客様のご要望に応じて、きめ細かく対応しております。<br />  また、事前にリスクを回避するためのクリアランス調査や、事後的な対応としての無効調査、調査結果に基づく各種鑑定業務など、知財戦略を策定する上で必要な種々案件も増加しております。<br />  意匠・商標関連の知財紛争業務のご要望は引き続き多くなっております。意匠・商標部門では、部門長の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">小早川</a>が、経験豊富なスタッフと共に、皆様のご要望にきめ細かに対応いたします。<br />  当法人としましては、お客様の知財戦略の策定支援、知財紛争の解決支援を行うことで、お客様にしっかりと貢献していきたいと考えております。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">3.意匠法に関する改正法の施行及び知財訴訟制度の見直し</span></span><br />  意匠法に関する改正法の施行及び知財訴訟制度の見直しが2020年に予定されています。昨年11月22日に、当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?』を開催しました。<br />  その報告を<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a" target="_blank">新着情報</a>にて掲載しておりますので、ご参照ください。<br />  まず第1部では、<br />  ・意匠法改正の内容(画像デザインの保護拡充、空間デザインの保護、関連意匠制度)<br />  ・意匠審査基準の改訂内容<br />  ・海外の登録例 等<br /> 改正意匠法の内容について説明させていただきました。<br />  続いて第2部では、<br />  ・法改正の内容(査証制度の導入、損害賠償額の算定に関する変更)<br />  ・知財戦略(出願前の局面、審査の局面、権利行使の局面等) 等<br /> 知財訴訟制度の見直しについて説明させていただきました。<br />  特に意匠に関しては、本年4月1日より改正意匠法に含まれるほとんどの規定が施行されます。改正範囲が多岐にわたる大改正です。ご要望頂けましたら、貴社に適切に対応した改正意匠法の活用法についてのご説明・ご提案を行いますので、是非、お気軽にお問合せください。<br /> <br /> <span style="font-size:14px;line-height:130%;"><span style="font-weight:bold;color:#003366;">4.お客様企業のグローバルな知財活動を支援致します!</span></span><br />  国際的な知財契約交渉に対応させていただく事案が増加しております。競合する外国企業が外国にて行っている訴訟・審判の手続状況をつぶさにウォッチングしつつ、お客様に選択可能な戦略・戦術上のオプションをご紹介する活動を行っています。また、事前準備を適切に行った上で、相手方の外国企業や外国代理人事務所にお客様と共に訪問して交渉を行ったり、電話会議にて継続的に交渉を進めたり、と、お客様のグローバル活動を支援する案件にお役に立たせていただいております。<br />  また、外国出願案件においても、重要な案件である場合には、お客様のご依頼に応じて、日本弁理士が、当法人内部の米国特許弁護士や中国弁理士試験合格者と適宜協力しつつ、共同で案件対応を進めている外国代理人と、電話会議やテレビ会議をして、方針の詳細を決める事案が多々発生しております。紙面での連絡だけでは得られない相互理解を実現しつつ、案件に関する適切な対応を進めております。<br /> <br />  相変わらず不透明な経営環境が続くことが予想されますが、<br /> 「<span style="color:#ff0000;font-weight:bold;">知的財産を通じてお客様の事業目的実現に貢献する</span>」<br /> というミッションを実現すべく、これまで以上にお客様に寄り添い、お客様からの多様なニーズに対してお役に立てるサービスを提供させていただきます。<br />  その結果、『お客様に選んでいただき、選び続けていただける』名古屋国際特許業務法人となるよう、法人一丸となって努力していく所存であります。<br /> <br />  ※なお、本年は1月6日(月)より業務を開始いたします。<br />  本年も皆様のお役に立てる機会が多くなるよう祈念しております。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 01 Jan 2020 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=13362474815e044dadb2566 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ4をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ4のテーマは「A DAY in the LIFE of a PATENT EXAMINER」です。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、彼ならではの実経験に基づく内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ4のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech4.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Fri, 27 Dec 2019 00:00:00 +0900 当法人主催セミナー『2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしま ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=12259501935ded92c970b2a この度、当法人主催セミナーにおいて、<br /> <a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=6972213745d959813ed859" target="_blank">2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?</a><br /> というテーマで講演を行いました。<br /> <br />  主催:名古屋国際特許業務法人<br />  場所:ウインクあいち<br />  日時:令和元年11月22日(金)14:00~16:45<br />  講師:<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/okamoto/index.html" target="_blank">岡本</a>(当法人代表)、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/ishihara/index.html" target="_blank">石原</a>(当法人副代表)、<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/kobayakawa/index.html" target="_blank">小早川</a>(当法人弁理士)<br /> <br />  まず第1部では、<br />    ・意匠法改正の内容(画像デザインの保護拡充、空間デザインの保護、関連意匠制度)<br />    ・意匠審査基準の改訂内容<br />    ・海外の登録例 等<br /> 改正意匠法の内容について説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image01.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br />  続いて第2部では、<br />    ・法改正の内容(査証制度の導入、損害賠償額の算定に関する変更)<br />    ・知財戦略(出願前の局面、審査の局面、権利行使の局面等) 等<br /> 知財訴訟制度の見直しについて説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image02.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br />  最後に、第3部では、<br />    ・自社、競合会社、協業会社の分析方法<br />    ・新しい事業領域又は注力すべき事業領域を探す手法 等<br /> 特許情報を主とした戦略的な調査・分析について説明させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011209/image03.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br />  本セミナーは予想を大きく上回る受講希望がありました。また、講演後のアンケートや懇親会での意見交換を通して、2020年施行の法改正について受講者の関心の高さが伺えました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキスト等をご希望の方は、【名古屋国際特許主催セミナー(11/22開催)のテキスト希望】の旨と、【貴社名、及び、ご担当者名】をご記載の上、<a href="mailto:daihyo@patent.gr.jp?subject=【名古屋国際特許主催セミナー(11/22開催)のテキスト希望】&amp;body=※【貴社名、及び、担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 10 Dec 2019 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=20316166575de0684060ed4 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ3をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ3のテーマは「AFCP2.0」です。<br /> ※AFCP2.0(After Final Consideration Pilot 2.0)プログラムとは、米国特許商標庁が提供する試験的なプログラムであり、ファイナル・アクションの発行後における審査手続の効率を高めるためのものです。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、実際に「AFCP2.0」に基づく実務を行っていた彼ならではの経験に基づく、興味深い内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ3のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech3.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 02 Dec 2019 00:00:00 +0900 東京女子医科大学 先端生命医科学研究所 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2274143565dc8fc0e2efc6  この度、にて、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越淳(弁理士)</a>が、『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』というテーマで講師をしました。<br /> <br /> <a href="http://twins.twmu.ac.jp/mdmj/content/fy2019/seminar" target="_blank">2019年度 AMED次世代医療機器連携拠点整備等事業<br /> 世界産品創出のために医工融合Finisherを練成する新結合拠点整備事業セミナー</a><br /> <a href="http://twins.twmu.ac.jp/mdmj/wp-content/uploads/2019_leaflet_middle.pdf" target="_blank">ミドルコース</a><br /> <br /> 主催:東京女子医科大学 先端生命医科学研究所 先端工学外科(FATS)<br /> 場所:東京女子医科大学 弥生記念講堂<br /> 日時:令和元年11月 6日(水) <br />     10:30~17:30 <br /> <br />  今回の女子医大でのセミナーは、<a href="https://www.amed.go.jp/index.html" target="_blank">AMED(国立研究開発法人日本医療研究開発機構)</a>の次世代医療機器事業にて行われるセミナーで、「ベーシックコース」、「ミドルコース」、「アドバンスドコース」のコースが開催されています。今回は、当法人の弁理士である山越が、「ミドルコース」のセミナーおいて『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』というテーマで講師を担当させていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011111/image01.jpg" alt="医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法" width="400" height="267" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br /> 特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。今回のセミナーでは医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続きの経験もある山越が、医療機器の開発にあたって特許法上の留意すべき事項や、医薬品医療機器等法と特許法の対比説明などを行い、医療機器産業に参入する際に、この二つの法律のどのような点を考慮した上で、どのような事業戦略を進めていけば良いかについて主にお話をさせていただきました。<br /> また、医薬品医療機器等法にも詳しい弁理士ならではの観点から、過去に医療機器産業に参集した企業をサポートした経験等に基づき、医療機器産業に参入する上で想定されるビジネス上のリスクや問題、医療機器の開発、製造、販売に当たって留意すべき事項等について事例を交えながらそのノウハウをご説明いたしました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011111/image02.jpg" alt="医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法" width="400" height="245" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br /> <br />  講演後には、受講者の方々から知財及び医薬品医療機器等法に関する質問が多くなされ、医療機器産業における知財などの関心の高さを改めて伺う事ができました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキストをご希望の方は、東京女子医科大学 先端生命医科学研究所 先端工学外科(FATS)主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望】の旨と、【貴社名、および担当者名】をご記載のうえ、<a href="mailto:yamakoshi@patent.gr.jp?subject=東京女子医科大学 先端生命医科学研究所 先端工学外科(FATS)主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望&amp;body=※【貴社名、および担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 11 Nov 2019 00:00:00 +0900 関東経済産業局、及び長野県主催セミナー「医療機器開発における知的 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2130135705dc3cf8f1d31e  この度、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越淳(弁理士)</a>が、<span style="font-weight:bold;color:#FF0000;">『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』</span>というテーマで下記セミナーに講師として参加いたしました。<br /> <br /> <a href="https://www.pref.nagano.lg.jp/mono/happyou/191004press_chizai.html" target="_blank">令和元年度 戦略的知財マネジメント促進事業 知財セミナー</a><br /> 主催:関東経済産業局・長野県  後援:特許庁<br /> 実施機関:一般社団法人発明推進協会<br /> 場所:テクノプラザおかや<br /> 日時:令和元年10月28日(月) <br />     13:30~16:30<br /> <br />  特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法は、いずれも医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。今回のセミナーでは医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続きの経験もある山越が、医療機器の開発にあたって留意すべき特許法上の規定の説明や、医薬品医療機器等法と特許法の対比説明を行い、医療機器産業に参入する際に、この二つの法律のどのような点を考慮した上で、どのような事業戦略を進めていけば良いかについてお話をさせていただきました。<br />  また、医薬品医療機器等法にも詳しい弁理士ならではの観点から、過去の経験等に基づき、医療機器産業に参入する上で想定されるビジネス上のリスクや問題、医療機器の開発、製造、販売に当たって留意すべき事項等について事例を交えながらそのノウハウをご説明いたしました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011107/image.jpg" alt="医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法" width="400" height="300" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;" /></center><br />  受講者の皆さんが熱心に話に耳を傾けている姿や、講演後に行われて質疑応答の内容から、医療機器産業への関心の高さを改めて伺う事ができました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキストをご希望の方は、【関東経済産業局、及び長野県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望】の旨と、【貴社名、および担当者名】をご記載のうえ、<a href="mailto:yamakoshi@patent.gr.jp?subject=【関東経済産業局、及び長野県主催セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」のテキスト希望】&amp;body=※【貴社名、および担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 07 Nov 2019 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=13832527755db8026af01fb 先日、当法人の米国特許弁護士<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>が米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっており、今回はスピーチ2をご紹介します。<br /> <br /> スピーチ2のテーマは「インタビュー(面談)」です。<br /> 米国特許出願において「米国特許商標庁の審査官とのインタビュー(面談)」を行う際の進め方・留意点等を、バラエティーに富んだトピックを織り交ぜながら紹介しています。<br /> (エドゥアルド・ガルシア-オテロは米国特許商標庁の審査官でしたので、実際にインタビューを行っていた彼ならではの経験に基づく、興味深い内容となっています。)<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ2のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech2.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Wed, 06 Nov 2019 00:00:00 +0900 弁理士参画のお知らせ(中谷智子) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=2016023265d96f2d7cd241 当法人は2019年10月1日より新たに弁理士 中谷智子(ナカタニトモコ)を迎えました。<br /> 詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/nakatani/index.html" target="_blank">中谷智子</a>」をご覧ください。<br /> <br /> 弁理士中谷智子は、東京工業大学生命理工学部を卒業後、製薬企業、ベンチャーキャピタルでの経験を経て、バイオベンチャーと大学の知財支援に長年従事、今般当法人にオブ・カウンセルとして参画しました。<br /> <br /> 中谷は、「お客様自らが知財戦略を策定できる知恵と知識を提供する」ことを信条としており、法律とビジネスの両面からお客様の知財戦略を支援します。<br /> <br /> 当法人では、新たに参画した上記弁理士を含め、「大切な知的財産の保護・活用のため、お客様の多様なニーズに誠実にお応えする」ため、これまで以上に上質なサービスを提供していく所存であります。<br /> <br /> 何卒、よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Mon, 07 Oct 2019 00:00:00 +0900 知財セミナー「2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=6972213745d959813ed859 意匠法に関する改正法の施行及び知財訴訟制度の見直しが2020年に予定されています。<br /> <br /> 第1部では、<span style="text-decoration:underline">改正意匠法の内容</span>について、分かりやすく説明します。特に、画像デザインの保護拡充、空間デザイン(建物等の不動産の外観、内装)の保護、関連意匠制度の変更点を説明します。また、改正意匠法と併せて、セミナー開催日直前までの最新情報に基づいた意匠審査基準の改訂内容の解説や海外の登録例の紹介も併せて行いますので、改正意匠法の概要を知っている方にとっても有益な内容となっています。 <br /> <br /> 第2部では、<span style="text-decoration:underline">知財訴訟制度の見直し(査証制度の導入、損害賠償額の算定に関する変更)</span>について説明します。改正内容をわかりやすく解説すると共に、本改正に基づき、ノウハウ化と出願の境界、査証の利用場面及び査証を受ける場面を想定した戦略、新損害賠償制度を考慮した訴訟前交渉テクニック等の知財戦略がどう変わりうるかについて、皆さまにご紹介いたします。<br /> <br /> 第3部では、話題を変えて、<span style="text-decoration:underline">特許情報を主とした戦略的な調査・分析等</span>について説明します。単なる先行技術調査ではなく、特許戦略の立案や事業戦略の立案等に調査・分析を活用していくことの有用性が近年高まっています。特に中小企業様にとって、どのような調査・分析が有用なのかをご紹介します。<br /> <br /> <span style="text-decoration:underline">本セミナーを受講し、他社に先んじて貴社の知財業務をアップデートすることに役立ててください!!</span><br /> <br /> また、セミナー終了後、講師や他の参加者とのざっくばらんな意見交換の場として、セミナー会場付近にて懇親会を行います。是非、セミナーおよび懇親会にご参加賜りますようご案内申し上げます。(なお、セミナー及び懇親会は申込先着40名様限定となっております。また、セミナー及び懇親会の参加費につきましては無料です。)<br /> <br /> セミナー及び懇親会への参加をご希望の場合は、会社名、所属部署名、ご参加者名、参加人数を明記の上、当方までメール(E-mail: <a href="mailto:daihyo@patent.gr.jp?subject=【2019/11/22セミナー・懇親会のご参加希望】&amp;body=※【貴社名、所属部署名、ご参加者名、参加人数】のご記入をお願いいたします。">daihyo@patent.gr.jp</a> )、もしくは、下記セミナーチラシにてFAXでご連絡いただきますよう、お願い致します。<br /> <br /> <span style="color:#FF0000;font-weight:bold;">※詳しくは下記画像をクリックしご確認ください。</span><br /> <a href="http://patent.gr.jp/news/images/R011004/R011122_seminar.pdf" target="_blank"><img src="http://patent.gr.jp/news/images/R011004/image01.jpg" alt="2020年施行の法改正を先取りして業務に活かしませんか?" width="610" height="850"/></a> http://www.patent.gr.jp/ Thu, 03 Oct 2019 00:00:00 +0900 米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化(スピーチ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=11311138655d7598762592f 先日、当法人の米国特許弁護士エドゥアルド・ガルシア-オテロが米国実務上のテーマを選択して毎月社内でスピーチを行っていることをお伝えしました。<br /> <br /> (参考)<a href="https://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878" target="_blank">お知らせ「米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強化を行っています。」</a><br /> <br /> このスピーチはシリーズとなっておりますが、今回は、スピーチシリーズの初回であるスピーチ1をご紹介します。<br /> スピーチ1のテーマは「発明の名称」です。米国特許出願において「発明の名称」をつける際の留意点を、バラエティーに富んだトピックを織り交ぜながら紹介しています。<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">スピーチ1のダイジェスト版映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech1.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にお役に立てていただくことも可能です。<br /> ご要望いただければ、当方米国特許弁護士のスピーチを貴社にて開催いたします。<br /> スピーチのテーマについては、貴社が希望されるものも設定できますので、ご興味がありましたら、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Tue, 24 Sep 2019 00:00:00 +0900 弁理士増員のお知らせ(吉元梨江子) http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=17467943935d5e152e440f3 吉元 梨江子(ヨシモト リエコ)が、弁理士登録をいたしました。<br /> 詳しくは、弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yoshimoto/index.html" target="_blank">吉元 梨江子</a>」をご覧ください。<br /> <br /> 吉元は、北海道大学で法学を専攻し、特許事務所を経て<br /> 2019年4月に当法人に入所し、今般弁理士登録をいたしました。<br /> <br /> 吉元は、「親身にお客様の相談に乗り、丁寧に対応する」ことを信条としており<br /> 国内外の意匠商標実務に関する知見が深く、また出願手続等や方式手続も得意としております。<br /> <br /> 当法人では、新たに増員した弁理士を含め、<br /> 「大切な知的財産の保護・活用のため、お客様の多様なニーズに誠実にお応えする」ため、<br /> これまで以上に上質なサービスを提供していく所存であります。<br /> 何卒よろしくお願いいたします。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 22 Aug 2019 00:00:00 +0900 当法人では、米国特許弁護士による当法人スタッフの英語での対話力強 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=8065053375d5e1661d3878 当法人の米国特許弁護士 エドゥアルド・ガルシア-オテロが米国実務上のテーマを選択し、毎月社内でスピーチを行っています。<br /> スピーチ内容のリスニング&英語での質疑を通して当法人スタッフの英語での対話力強化を図る教育プロジェクトの一環として定期開催しております。<br /> エドゥアルド・ガルシア-オテロは半導体製造や電気通信の分野を得意としており、米国特許庁にて4年間審査官をした経験を実務に適切に活かしております。<br /> 詳しくは弁理士紹介「<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/edgarcia/index.html" target="_blank">米国特許弁護士 エドゥアルド・ガルシア-オテロ</a>」をご覧ください。<br /> <br /> スピーチで取り上げるトピックとしては、特許に関するトピックはもちろん、ホットなトピック、意外なトピック(特許実務上有用なものです)などがあり、バラエティーに富んでいます。<br /> 今後、スピーチの様子の一部を皆様にもご紹介していきたいと思います。<br /> どうぞご期待ください。<br /> <br /> <center><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline">本スピーチシリーズ全体の予告編の映像です。ぜひご覧ください。</span><br /> <video src="http://patent.gr.jp/news/videos/Speech0.mp4" controls alt="米国特許弁護士スピーチ動画" width="400" height="225" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;"></video></center><br /> <br /> 貴社スタッフの英語での対話力強化にてお役に立てていただくことも可能です。<br /> 貴社でのご希望のテーマがあれば、<a href="mailto:speech@patent.gr.jp?subject=【米国特許弁護士スピーチについてのお問い合わせ】&amp;body=※【貴社名、および担当者名、ご希望のテーマ等】をご記入お願いします。">本件担当</a>までお気軽にご連絡ください。 http://www.patent.gr.jp/ Thu, 22 Aug 2019 00:00:00 +0900 採用情報ページ リニューアルのお知らせ http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=601619655d4b83de1fdd5 当法人の採用情報ページをリニューアルしました。<br /> ※新しい採用情報ページは「<a href="https://www.patent.gr.jp/recruit/" target="_blank">こちら</a>」です。<br /> <br /> リニューアルの主な内容は次の通りです。<br />  ・デザインを一新しました。<br />  ・スマートフォンからの閲覧に完全対応しました。<br />  ・募集職種毎の社員メッセージを充実させました。<br />  ・教育プランの説明、実務担当者向け説明会の案内を追加しました。<br /> <br /> また、リニューアル後の採用情報ページには、実務担当者向け説明会の申し込みフォームを追加しています。<br /> 実務担当者向け説明会は、特許又は意匠・商標担当者として働くことを検討しておられる方を対象として、名古屋本部にて開催しております。この説明会においては、当法人の概要、業務内容、教育体制などについて説明させていただくとともに、種々の質問にもお答えします。また、オフィス内を見学いただけます。<br /> ※詳細は採用情報ページ内「<a href="https://www.patent.gr.jp/recruit/tour/" target="_blank">実務担当者向け説明会</a>」をご覧ください。<br /> <br /> 当法人スタッフ一同、皆様のご応募を心からお待ちしております。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Fri, 09 Aug 2019 00:00:00 +0900 平成30年度 意匠出願動向調査 -医療用及び実験用器具- のご案内 http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=10242452845d259ff24a09d 特許庁では、例年、特許に加えて意匠・商標について出願動向調査を行っています。この動向調査では、<span style="font-weight:bold;">意匠・商標の出願動向</span>に加えて、<span style="font-weight:bold;">経済・産業の進展状況・方向性等の調査・分析</span>を行い、その調査結果を報告書として公開しています。なお、この動向調査は、国内外の出願動向の調査であるマクロ調査の他、年毎に定められた特定の技術分野の具体的な調査も行われ、報告書が作成、公開されています。<br /> <br />  意匠・商標出願動向調査<br />  <a href="https://www.jpo.go.jp/resources/report/gidou-houkoku/isyou_syouhyou-houkoku.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/resources/report/gidou-houkoku/isyou_syouhyou-houkoku.html</a><br /> <br /> <br /> 昨年度(平成30年度)は、医療機器(医療用及び実験用器具)が調査対象として選定され、その調査が行われ、現在、その報告書が特許庁のホームページにて公開されています。<br /> <br />  平成30年度 意匠出願動向調査 -医療用及び実験用器具-<br />  <a href="https://www.jpo.go.jp/resources/report/gidou-houkoku/document/isyou_syouhyou-houkoku/30isho_iryo.pdf" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/resources/report/gidou-houkoku/document/isyou_syouhyou-houkoku/30isho_iryo.pdf</a><br /> <br /> <br /> 報告書の内容は、各国の出願動向の他、医療機器産業の全体的な市場動向や、各国の医療機器の規制に関する情報、さらには企業へのヒアリングの内容なども掲載されており、医療機器産業にて業務を行っている企業やこれから参入を検討している企業の参考になる様な情報が多く含まれています。<br /> <br /> なお、この調査には当法人の弁理士である<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越</a>も委員として参加させて頂いており、知財の観点や規制法の観点からも意見を述べさせて頂いております。<br /> <br /> 意匠に限らず様々な情報が含まれているため、医療機器産業に関心のある企業様は一度御確認頂けるとよいのではないかと思われます。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Thu, 11 Jul 2019 00:00:00 +0900 特許法等の一部を改正する法律(令和元年5月17日法律第3号)の公布に ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=19248002815cfeff865c9e1  平成31年3月1日に閣議決定された、「特許法等の一部を改正する法律案」が、令和元年5月10日に可決・成立し、5月17日に法律第3号として公布されました。<br />  この改正は、一部の規定を除き、公布の日(令和元年5月17日)から起算して1年を超えない範囲内において政令で定める日に施行されます。<br />  主な改正内容は以下の通りです。<br /> <br /> <span style="font-size:20px;line-height:130%;font-weight:bold;color:#A40D2F;">◆法律改正の概要</span><br /> <div style="margin-left:1em;"><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;color:#003C93;"><1> 特許法の一部改正</span><br />  (1) 中立な技術専門家が現地調査を行う制度(査証)の創設特許権の侵害の可能性がある場合、中立な技術専門家が、被疑侵害者の工場等に立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度を創設する。<br />  (2) 損害賠償額算定方法の見直し<br />   (i)侵害者が譲渡した物の数量に基づいて損害額を算定する場合に、現行法では特許権者の生産能力等を超える譲渡数量に応じた額が損害額の算定から控除されるが、改正法においては、特許権者の生産能力等を超えるとされた譲渡数量について、ライセンス料相当額を損害額として加えることができるようにする。<br />   (ii)ライセンス料相当額による損害賠償額の算定に当たり、特許権侵害があったことを前提として交渉した場合に決まるであろう額を考慮できる旨を明記する。<br /> ※(2)については実用新案法、意匠法及び商標法において同旨の改正を実施。</div><br /> <div style="margin-left:1em;"><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;color:#003C93;"><2> 意匠法の一部改正</span><br />  (1) 保護対象の拡充<br />  物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインを、新たに意匠法の保護対象とする。<br />  (2) 関連意匠制度の見直し<br /> 一貫したコンセプトに基づき開発されたデザインを保護可能とするため、<br />   (i)関連意匠の出願可能期間を、本意匠の登録公報発行前日まで(8か月程度)から、本意匠の出願日から10年以内までに延長する。<br />   (ii)関連意匠にのみ類似する意匠の登録を認める。<br />  (3)意匠権の存続期間の変更<br />  「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更する。<br />  (4)意匠登録出願手続の簡素化<br />   (i)複数の意匠の一括出願を認める。<br />   (ii)物品の名称を柔軟に記載できることとするため、物品の区分を廃止する。<br />  (5) 間接侵害※規定の拡充<br />      ※侵害を誘発する蓋然性が極めて高い予備的・幇助的行為を侵害とみなす制度<br />  「その物品等がその意匠の実施に用いられることを知っていること」等の主観的要素を規定することにより、取り締まりを回避する目的で侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まれるようにする。</div><br /> <div style="margin-left:1em;"><span style="font-weight:bold;text-decoration:underline;color:#003C93;"><3> その他</span><br />  公益団体等(自治体、大学等)が自身を表示する著名な商標権のライセンスを認める等の措置を講ずる。</div><br /> <br />  規則については、内容が判明し次第、お知らせする予定です<br />  なお、詳細な情報は特許庁HPでご確認下さい。<br />  <a href="https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r010517.html" target="_blank">https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r010517.html</a> http://www.patent.gr.jp/ Tue, 11 Jun 2019 00:00:00 +0900 Medtec Japan 2019 セミナー「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療 ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=18319663475ca17d5c50b34  この度、<a href="http://www.medtecjapan.com/" target="_blank">Medtec Japan 2019</a> セミナーにて、当法人の<a href="https://www.patent.gr.jp/houjin/staff/yamakoshi/index.html" target="_blank">山越淳(弁理士)</a>が、<span style="font-weight:bold;color:#FF0000;">『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』</span>というテーマで講師をしました。<br />  <br />  <a href="http://www.medtecjapan.com/seminar_programme2019#." target="_blank">Medtec Japan 2019 セミナー</a><br />  場所:東京ビッグサイト セミナー会場1<br />  日時:平成31年3月19(火) ~医療機器業界入門編~<br />      13:00~14:00 <br /> <br /> <span style="font-size:10px;line-height:130%;">以下はMedtec JapanのHPからの抜粋です。<br /> ――――――――<br /> ~医療機器業界入門編~<br /> はじめて医療機器・ヘルスケア機器の開発に挑むときの手順と失敗しない進め方。医療機器ビジネス特有の仕組み(法規制、業許可、特許、商習慣等)及び、多種の参入事例からその方法を知り、活かす<br /> <br /> 「医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法」<br /> 医療機器開発で、医薬品医療機器等法及び特許法はいずれも大切な法律である。承認等がなければ製品の製造販売を行うことができない一方、知財がなければ、自社の技術の保護を図り、他社の模倣を止めることが難しいためだ。医療機器の開発を行う上で、二つの法律の観点から留意易すべき事項等について解説する。<br /> http://www.medtecjapan.com/seminar_programme2019#.<br /> ――――――――<br /> </span><br />  特許法をはじめとする知的財産権と、医療機器の規制を行う医薬品医療機器等法(旧薬事法)はいずれも異なる法律で一見関係がないように見受けられますが、医療機器の製造、開発を行う上で大切な法律です。今回のセミナーでは医療機器を取り扱う企業にて医薬品医療機器等法(旧薬事法)に関する手続きの経験もある山越が、医療機器の開発にあたって留意すべき特許法上の規定の説明や、医薬品医療機器等法と特許法の対比説明を行い、医療機器産業に参入する際に、この二つの法律のどのような点を考慮した上で、どのような事業戦略を進めていけば良いかについてお話をさせていただきました。<br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/H310401/image01.jpg" alt="医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法" width="275" height="179" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;" /></center><br /> さらに「医薬品医療機器等法(薬事法)、特許法を考慮した医療機器の開発」と題して、医薬品医療機器等法(薬事法)に詳しい弁理士ならではの観点から、「想定されるビジネス上のリスク、問題」、「医療機器の開発、製造、販売に当たって留意すべき事項」及び「設計発のプロセスの中に、知財及び医薬品医療機器等法の観点を取り込む重要性」等に関してノウハウをご説明いたしました。<br /> <br /> <center><img src="http://patent.gr.jp/news/images/H310401/image02.jpg" alt="医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法" width="275" height="190" border="0" style="background-image:url(http://patent.gr.jp/news/images/images/shadow_r.png) ;background-repeat:no-repeat ;background-position:bottom right ;padding:10px 19px 19px 10px ;border-top:solid 1px #eeeeee ;border-left:solid 1px #eeeeee;"oncontextmenu="return false;" /></center><br />  当日は、当法人の山越の他、一般社団法人日本の技術をいのちのために委員会 上村理事による医療機器ビジネスへの参入の概論、公益財団法人医療機器センター 医療機器産業研究所 事業化支援室 石黒上級研究員による医療機器規制入門、コンメッド・ジャパン株式会社 野坂代表取締役による医療機器事業の海外展開について、NISSHA株式会社 メディカルテクノロジー事業部 竹内事業推進グループ長による異業種から医療機器業界へ参入した事例についてのお話等がありました。<br /> <br />  受講者の皆さんが熱心に話に耳を傾けている姿から、医療機器産業への関心の高さを改めて伺う事ができました。<br /> <br /> ※セミナーにて使用したテキストをご希望の方は、Medtec Japan 2019 セミナー【『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』のテキスト希望】の旨と、【貴社名、および担当者名】をご記載のうえ、<a href="mailto:yamakoshi@patent.gr.jp?subject=【『医療機器開発における知的財産権と医薬品医療機器等法』のテキスト希望】&amp;body=※【貴社名、および担当者名】をご記入お願いします。">こちら宛</a>にご連絡ください。<br /> http://www.patent.gr.jp/ Mon, 01 Apr 2019 00:00:00 +0900 新たな特許料等の減免制度について(審査請求料・特許料(第1年分~ ... http://www.patent.gr.jp/news/shosai.html?id=14288322955c765261693da <span style="font-weight:bold;color:#A40D2F;font-size:16px;line-height:130%;text-decoration:underline;">はじめに</span><br /> 中小企業等を対象とした特許料等の減免措置が規定された「不正競争防止法等の一部を改正する法律(平成30年5月30日法律第33号)」(以下、「新法」)が2019年4月1日に施行されます。<br /> <br /> 現在も中小企業等を対象とした特許料等の減免措置を受けることができますが、2019年4月1日以降に出願審査請求をされる特許出願等については、新法に基づく新たな特許料等の減免措置を受けることができます。また、減免申請手続きも大幅に簡素化されます。<br /> <br /> 以下に、新たな特許料等の減免制度の概要をご説明いたします。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#A40D2F;font-size:16px;line-height:130%;text-decoration:underline;">1.新減免制度・旧減免制度の適用関係について</span><br /> (1) 施行日(2019年4月1日)以降に審査請求をした出願の場合には、新法による減免制度(以下、「新減免制度」)に基づき、審査請求料・特許料(1~10年分)に係る減免の適用が判断されます。減免申請手続きは、新減免制度における申請手続に基づき、行うことになります。<br /> <br /> (2) 施行日より前(2019年3月31日以前)に審査請求をした出願の場合には、施行日以降も、施行日よりも前に存在している減免制度(以下、「旧減免制度」)に基づき、審査請求料・特許料(1~10年分)に係る減免の適用が判断されます。減免申請手続きは、旧減免制度における申請手続に基づき、行うことになります。<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#A40D2F;font-size:16px;line-height:130%;text-decoration:underline;">2.新減免制度の対象者・措置内容</span><br /> 新減免制度の対象者および措置内容は以下の通りです。<br />  ※各対象者の該当条件については当法人までお問い合わせください。(問合先:<a href="http://www.patent.gr.jp/houjin/staff/taniguchi/index.html" target="_blank">弁理士 谷口</a>)<br />  ※特許庁HPでも確認することができます(下方に特許庁の紹介ページへのリンクがあります)。<br /> <br />  <span style="font-weight:bold;">(a) <span style="text-decoration:underline;">中小企業(会社)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(b) <span style="text-decoration:underline;">中小企業(個人事業主)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(c) <span style="text-decoration:underline;">中小企業(組合・NPO法人)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(d) <span style="text-decoration:underline;">中小ベンチャー企業(法人・個人事業主)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/3に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/3に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(e) <span style="text-decoration:underline;">小規模企業(法人・個人事業主)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/3に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/3に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(f) <span style="text-decoration:underline;">研究開発型中小企業(法人・個人事業主)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(g) <span style="text-decoration:underline;">法人税非課税中小企業(法人)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(h) <span style="text-decoration:underline;">個人(市町村税非課税者等)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:免除または1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第3年分):免除または1/2に軽減<br />      ・特許料(第4年分から第10年分):1/2に軽減<br />     <実用新案><br />      ・実用新案技術評価請求料:免除または1/2に軽減<br />      ・登録料(第1年分から第3年分):免除または3年間猶予<br />  <span style="font-weight:bold;">(i) <span style="text-decoration:underline;">アカデミック・ディスカウント(大学等、大学等の研究者)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(j) <span style="text-decoration:underline;">独立行政法人</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(k) <span style="text-decoration:underline;">公設試験研究機関</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(l) <span style="text-decoration:underline;">地方独立行政法人</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(m) <span style="text-decoration:underline;">承認TLO</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(n) <span style="text-decoration:underline;">試験独法関連TLO</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/2に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/2に軽減<br />  <span style="font-weight:bold;">(o) <span style="text-decoration:underline;">福島復興再生特別措置法の認定重点推進計画に基づいて事業を行う中小企業(法人・個人事業主)</span></span><br />     <特許><br />      ・審査請求料:1/4に軽減<br />      ・特許料(第1年分から第10年分):1/4に軽減<br /> <br /> <span style="font-weight:bold;color:#A40D2F;font-size:16px;line-height:130%;text-decoration:underline;">3.新減免制度の減免申請方法</span><br /> 2019年4月1日以降に審査請求した案件については、減免申請書を提出しなくても、「出願審査請求書」、又は「特許料納付書」に「減免を受ける旨」と「減免申請書の提出を省略する旨」を記載すれば、減免を受けることが可能となります。また、証明書類についても、提出が不要となります。<br /> また、新減免制度では、減免申請先がすべて特許庁に統一されます。<br /> <br /> ご不明な点はお気軽に当法人までご連絡ください。(問合先:<a href="http://www.patent.gr.jp/houjin/staff/taniguchi/index.html" target="_blank">弁理士 谷口</a>)<br /> <br /> (参考)<br /> <a href="https://www.jpo.go.jp/system/process/tesuryo/genmen/genmensochi/genmen20190401.htm" target="_blank">■新たな特許料等の減免制度が始まります(審査請求料・特許料(第1年分~第10年分))(特許庁HP)■</a> http://www.patent.gr.jp/ Thu, 07 Mar 2019 00:00:00 +0900